試驗爐

設備用途：實驗爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用於大型積體電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
青島晨立電子有限公司爲各大技術院校、試驗工程，專業打造試驗爐，可根據客戶需求定製各種非標實驗爐和溫控系統。
產品描述：
高精度溫度控制
   新型爐體設計，提高了溫度穩定性；配合高精度溫控儀的使用，保證工藝過程中溫度的快速穩定。
高性能進口元器件
   組合關鍵件採用進口管件，且爲半導體級別；優質的元器件組合，從而保證成膜質量。
軟着陸載片裝置
   軟着陸送料裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴散均勻性。同時槳的清洗週期大幅度延長。

主要技術參數： 
工藝管數量：1-4管
工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）
結構型式：臥式熱壁型
工作溫度範圍：400～1280℃
恆溫區長度及精度±0.5℃/1080mm
工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）
氣體流量設定精度:±1％F.S
氣路系統氣密性： 1×10-7pa.m3/s
記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制
超淨工作臺：淨化等級：100級（萬級廠房）噪音：≤62dB（A）震動：≤3μm
控制方式： 工業微機控制