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雙掃描平臺專利技術(E.D.I.T)
E.D.I.T技術為Microtek公司所獨有(美國專利號：5574274)，將透射稿與反射稿掃描完美結合，集效能 與品質於一體，解決了以往使用膠片適配器，掃描品質無法達到專業設計需求的不足。通過E.D．I.T專利技 術使掃描儀CCD感光元件能夠直接讀取掃描膠片數據，最大限度地消除了“牛頓環”這一光學現象以及 圖像扭曲。
雙鏡頭技術
雙鏡頭可以將掃描光學分辨率大幅提升，有效的將原稿放大輸出。同時採用低色散鏡片，保證輸入的準確性。
高密度範圍
高品質的鏡頭及反射鏡配合超高信噪比的CCD，以專業的掃描軟件讀取信息，造就了3．5D的密度範圍。使 此款掃描儀能夠在亮部及暗部都表現出完美的品質。
多片夾結構設計
多種規格的片夾可以配合不同尺寸的膠片原稿，不但使得光線不用透過玻璃，減少了不良影響，而且使得生產率空前提高.
先進的3D懸挂防震係統
由於在高分辨率掃描時，輕微的震動也、會對掃描結果造成不良影響，所以我們開發了3D懸挂防震係統。即使在掃描過程中，不小心碰撞了桌臺，也不會對掃描結果造成影響。
先進的溫控係統
為了進一步降低工作時的CCD溫度，增加信噪比，MICROTEK採用了先進的溫控係統，對CCD降溫，保證了掃描儀有良好的密度範圍和色彩的準確性。
高可靠性及完善的售後服務
掃描儀每一部件的精挑細選及生產的嚴格控制，以ISO9001的標準對各個環節有效的管理。同時完善的售後服務係統為廣大用戶使用提供了可靠的保證，並且在中國已經得到了認可。
