研發用真空均質機，小型真空均質機，真空均質機，小型均質機，小型均質機用於實驗室研發用，模擬工業化生產，爲工業化生產提供可靠的試驗資料。    真空均質機可以有效的消除乳化過程中泡沫，可以是物料乳化的 徹底；真空均質機也可以用於一些不易於空氣接觸的物料（易燃易爆）， 風險，提高生產的安全性。                  小型真空均質機是由真空系統和均質機組成，一個真空罐體和管線式均質機相結合，真空罐內可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機爲ER2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的 理想乳化設備，ER2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，採用德國博格曼雙端面機械密封，乳化效果極佳。

影響 研發用真空均質機分散乳化結果的因素有以下幾點詳情請接洽上海依肯,段明明，手機，18018542795 QQ1530975733，公司有樣機供客戶實驗

1 乳化頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結構（分爲初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散牆體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 迴圈次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)                            g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決於以下因素：

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離爲轉子-定子 間距。IKN 定-轉子的間距範圍爲 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60                        

   真空均質機，小型均質機，上海切可專業從事乳化設備的研發與生產，小型均質機在全國各 高校以及研究所都有着廣泛的應用。