岡本okamoto半自動CMP化學機械拋光機spp600s
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產品詳情
“岡本okamoto半自動CMP化學機械拋光機spp600s”參數說明
是否有現貨: | 否 | 認證: | 有 |
品牌: | OKAMOTO | 自動化程度: | 半自動 |
是否加工定製: | 是 | 電流: | 交流 |
型號: | SPP-600S | 規格: | 適用晶圓尺寸厚度晶圓尺寸: 3 - 8 |
商標: | OKAMOTO | 包裝: | 標準 |
“岡本okamoto半自動CMP化學機械拋光機spp600s”詳細介紹
一、設備概要:
-600S 是半自動通用拋光型設備,不僅可以處理氧化層和金屬膜,而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和一個定盤修正頭,可實現高的吞吐量。它具有獨特的軟體和觸摸屏,使用操作方便。
二、設備構成:
1. 拋光頭:
一個定盤,兩個拋光頭同時工作,可實現高的吞吐量;
可獨立編程(包括轉速)並單獨控制每個拋光頭;
夾緊機構爲真空吸附固定或利用晶圓表面張力進行固定;
裝備有保護圈以保證均勻性和邊緣輪廓;
拋光壓力基於實時監控;
具有擺動功能;
2. 定盤:
水冷系統可保證穩定運行
3. 修整主軸:
裝有專用修整頭;
修整壓力靠頭的自重;
4. 外殼:
全密封;
互鎖門;
5. 觸摸屏:
9.5 寸全綵屏;
GUI 操作面板;
4 級程序控制;
6. 供液單元:
使用羅拉泵可實現穩定供液。
三、設備指標:
1. 適用晶圓尺寸厚度晶圓尺寸: 3 - 8 英寸
2. 設備尺寸及重量尺寸: 1380 (W) x 1210 (D)*x 1873 (H)
3. 廠務條件電力要求: 10KVA, 200V, 3 Phase, 50/60 Hz
壓縮空氣壓力: ≧5.0 Kg/cm2
去離子水壓力: 1.0-1.5Kg/cm2
去離子水流量: 5 升/分鐘
排氣量: 3m3/分鐘
冷卻水(真空泵用): 壓力:2.0Kg/cm2
流量:大於3 升/分鐘
冷卻水(拋光定盤冷
卻系統用):
壓力:2.0Kg/cm2
流量:大於3 升/分鐘
-600S 是半自動通用拋光型設備,不僅可以處理氧化層和金屬膜,而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和一個定盤修正頭,可實現高的吞吐量。它具有獨特的軟體和觸摸屏,使用操作方便。
二、設備構成:
1. 拋光頭:
一個定盤,兩個拋光頭同時工作,可實現高的吞吐量;
可獨立編程(包括轉速)並單獨控制每個拋光頭;
夾緊機構爲真空吸附固定或利用晶圓表面張力進行固定;
裝備有保護圈以保證均勻性和邊緣輪廓;
拋光壓力基於實時監控;
具有擺動功能;
2. 定盤:
水冷系統可保證穩定運行
3. 修整主軸:
裝有專用修整頭;
修整壓力靠頭的自重;
4. 外殼:
全密封;
互鎖門;
5. 觸摸屏:
9.5 寸全綵屏;
GUI 操作面板;
4 級程序控制;
6. 供液單元:
使用羅拉泵可實現穩定供液。
三、設備指標:
1. 適用晶圓尺寸厚度晶圓尺寸: 3 - 8 英寸
2. 設備尺寸及重量尺寸: 1380 (W) x 1210 (D)*x 1873 (H)
3. 廠務條件電力要求: 10KVA, 200V, 3 Phase, 50/60 Hz
壓縮空氣壓力: ≧5.0 Kg/cm2
去離子水壓力: 1.0-1.5Kg/cm2
去離子水流量: 5 升/分鐘
排氣量: 3m3/分鐘
冷卻水(真空泵用): 壓力:2.0Kg/cm2
流量:大於3 升/分鐘
冷卻水(拋光定盤冷
卻系統用):
壓力:2.0Kg/cm2
流量:大於3 升/分鐘
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