一、產品名稱關鍵詞：氧化 溼法分散研磨機,氧化 漿料分散機,氧化 漿料納米分散機,氧化物研磨分散機

二、氧化 簡介

氧化 爲黑灰色六方晶系粉末。相對密度6.45。溶於酸，不溶於水，醇， 。易被 還原成金屬 。高溫時易與二氧化矽、氧化鋁或 反應生成多種顏料。

三、氧化 應用

氧化 是一種重要的過渡金屬氧化物。通常作爲生產硬質合金、超耐熱合金、絕緣材料和磁性材料的主要原料以及化學工業中的催化劑和染料。目前我國氧化 產品的主要應用領域如下：

油漆添加劑，在製造各種油漆時加入氧化 ，生產的油漆性能有所提高，特別是在油漆中起着催乾劑的作用，即在油漆使用中易於快速晾乾，以提高應用速率。這對油漆的快速施工大有益處。

 

搪瓷和陶瓷顏料，搪瓷材料中加入氧化 後，可耐腐蝕和提高耐磨度。在各種建材和日用陶瓷中，用氧化 製成藍色的顏料或釉料塗於陶瓷製品，經焙燒後呈現了鮮豔的陶瓷品， 具有藝術性。

精煉石油催化劑， 製品在石油煉制中作爲催化劑有着較長的歷史，且在促進煉油的發展中起着重要作用。如有的用金屬 與鋁、鐵等製成合金催化劑；而用氧化 作爲石油催化劑也是十分重要，對於加速石油煉製的作用是不可缺少的。因此，近幾年來氧化 催化劑的使用躍居重要地位。

應用於：壓敏電阻、熱敏電阻、 避雷器、顯像管玻殼、鋰離子電池等行業。用於制油漆顏料、陶瓷釉料和 催化劑等。

四、氧化 的分散

氧化 粉體應用，需要分散，或水或油或溶劑。粉體分散易於團聚，需要強機械力進行研磨分散。氧化 粉體粒徑一般爲10微米左右，需要加入液體介質中分散應用，氧化 +液體介質+分散劑採用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散，解決團聚問題， 均勻的分散，並進一步細化粒徑，一般分散後粒徑爲D90小於1微米，分散效果好，效率高。

五、氧化 溼法分散研磨機特點

1、SID希德研磨分散機爲立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時採用德國博格曼雙端面機械密封，並通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到 低，保證機器連續24小時不停機運行。

2、氧化 分散到液體介質當中，容易形成團聚。太倉希德研磨式分散機可以很好的解決這一問題，“膠體磨+分散機”的獨特結構，一級研磨模組可以將團聚體研磨打開， 級分散模組再瞬間對物料進行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。 

3、氧化 是超細粉體，所以需要強大的作用對其進行分散，傳統分散設備轉速一般不足3000rpm，難以分散。而SID研磨分散機轉速高達18000rpm，剪切速率高，可以充分的將氧化 分散到液體介質當中。  

4、SID研磨分散機採用管線式分體式結構，物料從進口進入設備工作腔中，進行處理，然後再從出口打出，物料可以得到充分剪切細化分散，產品 均勻穩定。另外可以實現在線式生產，滿足大工業化生要求。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因爲在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是 轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學徵不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特徵都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

 

以下爲型號表供參考：

型號	標準流量 L/H	輸出轉速 rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進口尺寸	出口尺寸
XMD2000/4	400	18000	44	4	DN25	DN15
XMD2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
XMD2000/10	4000	7200	44	22	DN80	DN65
XMD2000/20	10000	4900	44	45	DN80	DN65
XMD2000/30	20000	2850	44	90	DN150	DN125
XMD2000/50	60000	1100	44	160	DN200	DN150