一、產品名稱關鍵詞：石墨烯導電銀漿分散機,銀粉漿料分散機,銀漿複合分散機,高剪切分散機,高速膠體磨,膠體研磨機

二、銀漿的性質與生產： 

銀漿系由高純度金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質要求是十分嚴格的。其品質的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有着密切關係。銀粉的分散效果直接關係到銀漿的質量。所以採用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的，當然分散劑的應用也是 的。            

納米銀粉分散混合設備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發生團聚很難分散，如何將銀粉製成銀漿？銀漿的製備，炭黑的製備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機可幫您解決此類難題。

三、XMD2000石墨烯導電銀漿分散機

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因爲在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是 轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學徵不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特徵都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

 

以下爲型號表供參考：

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

採用XMD2000/4研磨分散機，進行研磨細化。

7L罐體（罐體大小後期可選擇）及循環系統，易於批次物料處理。

攪拌機進行攪拌預混，提高產品的均勻性。

我司研磨分散機爲 速設備（轉速18000rpm），需要配冷水機對機械密封進行降溫。

同時需要配置一臺變頻器，進行轉速調試，設備開關，有利於保護設備。

研磨分散機處理銀漿優勢：

結合客戶實驗案例，採用研磨分散機進行銀粉處理，不僅生產效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對於三輥機以及砂磨機而言，物料損失 小。  

 

銀粉研磨分散設備採用獨特的結構設計將傳統的膠體磨和分散機合二爲一，並配合 速的轉速，轉速可達14000rpm，研磨分散效果 。                
   

XMD2000系列研磨分散機參數表：

產品型號

XMD2000/4

XMD2000/5

XMD2000/10

品牌

SID/希德

電機功率（kw）

4

11

22

處理量（L/H）

400

1500

4000

主軸轉速（rpm）

14000

10500

7300

線速度（m/s）

44

分散盤直徑

55

75

115

進出口尺寸

DN25/DN15

DN40/DN32

DN80/DN65

外形尺寸

450*350*750

624*350*1177

930*400*1233

與物料接觸部分材質

316L

工作方式

高速剪切

速度類型

無級變速

變速方式

變頻變速

產品類型

全新

適用物料

乳液、混懸液、漿料等

應用行業

食品、化工、醫藥、化妝品、能源、石油等