鈦靶材以純鈦或鈦合金爲主要成分，經過精細製造而成。

高緻密

熔鍊設備技術性改造靶材緻密度提升至95-99%

高純度

特質原材料雜質含量低純度提升至99.99%min

高精度

精密CNC機加中心公差士0.1mm表面粗糙度32Ra

鈦靶材是通過真空熔鍊-熔模鑄造工藝製成的高純鈦或鈦合金板坯材料。顯著的特性是高純度和優良的緻密性。的鈦靶材的緻密度可以達到99.5%以上，且雜質元素極低，如Fe、Si、O、N、H等元素含量均小於100ppm。

此外，鈦靶材還具有好的均勻性。在製備過程中，採用了三次熔鍊和熱處理，有效改善了鈦靶材的組織均勻性。

鈦靶材主要用途：

射濺射:

製備機械部件的表面硬化層,提高抗磨性。

製備生物鈦合金材料的表面塗層,提高生物相容性。

 

電弧蒸發:

製備太陽能電池的前電極透明導電膜。

製備複合材料的鈦基增強層。

三、鈦靶材的製備方法

冶金法

原理:採用真空電弧冶煉等技術熔鍊高純鈦,然後經過多次熔鍊淬火、冷軋或鍛造等處理,製成鈦靶材。

工藝流程:選料→熔鍊→淬火鍛造→機械加工→檢測

優點:鈦靶材緻密度高,純度高,均勻性好。

缺點:工藝複雜,能耗高,成本較高。

純度

高純度鈦靶材(如99.99%)製備的膜層純度高,性能好。但靶材耗損快,增加運行成本。低純度鈦靶材雖具有成本優勢,但沉積膜的雜質含量高,影響膜層性能。

密度

緻密度高的鈦靶材膜層緻密性好,附着力強。但密度過高也會使膜內應力增大。適中密度的鈦靶材能獲得性能均衡的膜層。

表面粗糙度

光亮平整的鈦靶材可沉積表面質量的膜層。但過度拋光也會導致粒子脫落問題。適度的表面粗糙度有助改善薄膜的附着力。