產品簡介 »
BGJ-3型曝光機（光刻機）
本產品主要用於對光刻膠掩膜進行曝光以形成光刻膠圖形，採用的是接觸式紫外曝光。其中，BGJ-3採用單面對準方式，而BGJ-3B採用雙面對準方式。本產品操作方便、穩定性高、重復性好，並具有較高的性能價格比，可廣泛應用於科研和生產。
BGJ-3B雙面對準曝光機具有“雙面對準單面曝光”和“單面對準單面曝光”功能，雙面對準方式是通過紅外光將樣片背面的對準標記顯示在樣片正面以上進行對準，對準的觀察方式可以選擇顯微鏡，也可以選擇大屏幕顯示器。該產品廣泛應用於微機械等領域中。
技術指標及配置：
1、掩膜尺寸：4英寸或3英寸
2、樣片尺寸：3英寸兼2英寸，厚度0∼5mm
3、曝光燈功率：200W
4、分辨率：∼2μm
5、對準精度：∼2μm
6、光刻最細線條：∼3μm
7、基片臺行程：X向±2.5mm，Y向±2.5mm，旋轉 向±5°
8、掃描觀察範圍：X、Y向±15mm
9、顯微鏡：雙目分離視場，放大倍數：40X-240X
10、機泵一個（1.0升／秒）
11、外形尺寸：620mm＊520mm＊620mm
12、機臺重量：70kg
產品特徵 »
