北京國瑞升科技集團股份有限公司

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經營模式: 生產製造

所在地區: 北京市 

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供應藍寶石減薄CMP拋光液, 襯底減薄研磨液

圖片審覈中 供應藍寶石減薄CMP拋光液, 襯底減薄研磨液
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供應藍寶石減薄CMP拋光液, 襯底減薄研磨液

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價格 面議
起批量 100
供貨總量 1000000瓶
產地 北京市
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谷 女士
  • 138****6423

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產品詳情

“供應藍寶石減薄CMP拋光液, 襯底減薄研磨液”參數說明

品牌: Grish 種類: 研磨拋光
適用領域: 矽晶圓片拋光;鍺片拋光; 化鎵拋光;磷化 加工定製:
材質: Sio2 粒度: 10-100
型號: CMP 規格: 500ml
商標: Grish 包裝: 瓶裝
Qwe: Qwe 產量: 1000000

“供應藍寶石減薄CMP拋光液, 襯底減薄研磨液”詳細介紹

  GRISH CMP拋光液均是以高純矽粉爲原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用於多種材料納米級的高平坦化拋光,如:矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料 化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點。如:矽片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。可生產不同粒度(10~150 nm)的產品滿足用戶需求。根據pH值的不同可分爲酸性拋光液和鹼性拋光液。   產品的特點:   1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化矽粒子達到高速拋光的目的(可以生產150 nm)   2.粒度可控,根據不同需要,可生產不同粒度的產品(10-150 nm)   3.高純度(Cu2+含量小於50 ppb),有效減小對電子類產品的沾污   4.高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工   應用範圍:   1、矽晶圓片拋光;鍺片拋光; 化鎵拋光;磷化銦拋光;光學晶體拋光;藍寶石襯底拋光;LED襯底拋光;   2、 拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液;

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公司名稱:北京國瑞升科技股份有限公司

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mail:guqian@, grish@  

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