TF1000-250LV大管徑低真空熱處理爐基本介紹

本設備是由本公司自主研發，具有國家發明的真空設備。它具有效率高、成品質量好、美觀易操作維護等特點。

名稱：低真空熱處理爐

別名：真空管式爐、小型真空爐、臥式真空爐 

主要用於電子元器件的真空退火、真空時效等工藝。

TF1000-250LV大管徑低真空熱處理爐性能特點

 1.爐膛潔淨度高，不會對材料有污染。   

  2.生產效率高，加熱元件爲紅外燈管，升溫速率快。

3.上開式爐蓋設計，可在高溫下打開爐蓋達到加速降溫效果。 

TF1000-250LV大管徑低真空熱處理爐技術參數

主要參數：

使用溫度	非真空下≤1100℃/真空下≤900℃
功率電壓	10.8Kw（可調）三相 380V
加熱元件	紅外加熱管，100℃/Min；建議升溫速率20℃/Min
測溫方式	N型熱電偶管內測溫
外形尺寸	1285*858*1232mm（長、寬、高）
爐管尺寸	Φ250mm*1000mm
加熱區	外徑φ250mm*H400mm
極限真空度	8*10-1Pa（空爐、冷態、經淨化）
觸摸屏	10英寸
主要電氣配件

主要配件介紹：

機械泵/浙江飛越VRD-4
水冷機/達能CW-3000

 

TF1000-250LV大管徑低真空熱處理爐使用說明

1.表面處理（如果需要）；

2.開門放料；

3.設置工藝；

4.低真空熱處理；

5.開門取料。

TF1000-250LV大管徑低真空熱處理爐採購須知

支持

1.送貨（不含卸貨、上樓）。

2.設備技術支持。

3.工藝技術支持。

4.質保12個月，配件除外。

安裝條件說明

空氣開關：32A;380V;

場地大小：約1.5㎡（含水冷機場地）；

冷卻水：自來水等其他質水源；

設備重量：約280Kg；建議使用1噸及以上；

環境溫度：-15-45°C；

環境相對溼度：≤75°C；