高純度貴金屬 釕Ru 磁控濺射鍍膜沉積釕靶
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產品詳情
“高純度貴金屬 釕Ru 磁控濺射鍍膜沉積釕靶”參數說明
是否有現貨: | 是 | 類型: | 貴金屬 |
型號: | Ru-003 | 規格: | 圓、片、塊、綁定 |
商標: | Aetoes | 包裝: | 真空包裝 |
產量: | 10000 |
“高純度貴金屬 釕Ru 磁控濺射鍍膜沉積釕靶”詳細介紹
高純度貴金屬 釕(Ru)磁控濺射鍍膜沉積靶材PVD鍍膜材料蒸發顆粒 科研實驗 尺寸定製
產品名稱: |
釕(Ruthenium -Ru)濺射靶材 |
牌號規格: |
Ru2 |
用途備註: |
釕薄膜由於其獨特的物理、化學和催化性能,被廣泛用於電子、電氣和催化領域,例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大型積體電路中的銅擴散勢壘等 |
產 品 詳 情
貴金屬釕薄膜由於其獨特的物理、化學和催化性能,被廣泛用於電子、電氣和催化領域,例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大型積體電路中的銅擴散勢壘等。本公司具有完善的靶材加工、質量控制和殘靶回收技術,能夠製備出滿足客戶不同需求的高品質大尺寸釕(Ru)濺射靶材。
規格尺寸 |
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形狀 |
圓形、方形 |
尺寸 |
Φ10~200mm |
厚度 |
3~15mm |
純度 |
4N |
注:其他尺寸可根據客戶要求製作。 |
貴金屬釕(Ruthenium, Ru)
- 高純貴金屬釕(Ruthenium, Ru)作爲磁控濺射鍍膜沉積靶材及PVD鍍膜材料、蒸發顆粒材料,以其獨特的物理和化學性質,在多個高科技領域展現出顯著的應用優勢。
PRECIOUS METALS 稀貴金屬材料、電子束蒸發顆粒 |
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Gold (Au) |
Palladium (Pd) |
Silver (Ag) |
Platinum (Pt) |
Gold Arsenic (AuAs) |
Rhenium (Re) |
Gold Tin (AuSn) |
Rhodium (Rh) |
Iridium (Ir) |
Ruthenium (Ru) |
Osmium (Os) |
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我司深耕靶材領域十年,專注研發與生產,鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下:
- 材料特性:
1、釕靶材以其高純度(如3N5級別)著稱,確保了鍍膜過程的純淨度和 終產品的優異性能。其密度達到12.37g/cm3,使得靶材在濺射過程中能夠穩定且釋放釕原子。釕的熔點高達2334°C,這一特性使得釕靶材能夠在極端高溫環境下保持結構穩定,適用於高溫、高壓和腐蝕環境中的鍍膜需求。
三、市場應用領域:
1、在磁控濺射鍍膜技術中,高純釕靶材發揮着關鍵作用。該技術通過高能離子轟擊靶材表面,使釕原子蒸發或濺射, 終沉積在基板表面形成緻密、均勻的薄膜。這種薄膜不僅具有高耐腐蝕性,還具備優異的導電性,爲電子器件、光學元器件等產品的性能提升提供了重要保障。例如,在平面顯示領域,高純度釕薄膜可用於製作透明導電電極,提高顯示屏的透光性和觸摸靈敏度;在光學元器件領域,釕薄膜則可用於製 射鏡、濾波器等,提升光學系統的整體性能。
2、釕蒸發顆粒材料也因其高純度、高密度和高熔點而備受青睞。在蒸發鍍膜工藝中,釕顆粒被加熱至高溫並蒸發,隨後沉積在基板表面形成薄膜。這種工藝同樣能夠製備出高質量、高性能的釕薄膜,廣泛應用於太陽能電池、節能玻璃等領域。例如,在太陽能電池領域,釕薄膜可用作背反射層,提高光電轉換效率;在節能玻璃領域,釕薄膜則能賦予玻璃良好的隔熱性能和可控光透過率,降低建築能耗。
釕靶材和蒸發顆粒材料的行業應用優勢不僅體現在其優異的物理和化學性能上,還體現在其廣泛的適用性和靈活性上。無論是科學研究還是工業生產,釕靶材和蒸發顆粒材料都能提供可靠的解決方案。同時,隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展,釕靶材和蒸發顆粒材料的市場需求也將持續增長,爲相關產業的發展注入新的動力。
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