氧化鐿靶材Yb2O3 濺射鍍膜氧化鐿靶
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產品詳情
“氧化鐿靶材Yb2O3 濺射鍍膜氧化鐿靶”參數說明
是否有現貨: | 是 | 形態: | 固態 |
型號: | Yb2o3-03 | 規格: | 圓、片、塊、綁定 |
商標: | Aetoes | 包裝: | 真空包裝 |
產量: | 10000 |
“氧化鐿靶材Yb2O3 濺射鍍膜氧化鐿靶”詳細介紹
Yb2O3,氧化鐿靶材
Yb2O3,即氧化鐿,是一種高性能的磁控濺射靶材材料,因其獨特的物理性能和廣泛的應用領域而備受矚目。以下是對氧化鐿靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產,鑄就行業精品。公司生產氧化物靶材材料如下:
OXIDES 氧化物 |
|
Aluminum Oxide (Al2O3) |
Magnesium Oxide (MgO) |
Antimony Oxide (Sb2O3) |
Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
Barium Titanate (BaTiO3) |
Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
Bismuth Oxide (Bi2O3) |
Molybdenum Oxide (MoO3) |
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11) |
Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
Cerium Oxide (CeO2) |
Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2) |
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) |
Niobium Pentoxide (Nb2O5) |
Chromium Oxide (Cr2O3) |
Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
Chromium Oxide (Eu doped) |
Rare Earth Oxides (La2O3) |
Gallium Oxide (Ga2O3) |
Silicon Dioxide (SiO2) |
Germanium Oxide (GeO3) |
Silicon Monoxide (SiO) |
Hafnium Oxide (HfO2) |
Tantalum Pentoxide (Ta2O5) |
Indium Oxide (In2O3) |
Tin Oxide (SnO2) |
Indium-Tin Oxide (ITO) |
Titanium Dioxide (TiO2) |
Iron Oxide (Fe2O3) |
Tungsten Oxide (WO3) |
Lanthanum Oxide(La2O3) |
Yttrium Oxide (Y2O3) |
Lead Titanate(PbTiO3) |
Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
Lead Zirconate (ZrPbO3) |
Zinc Oxide (ZnO) |
Lithium Niobate (LiNbO3) |
Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) |
Zirconium Oxide (ZrO2) |
基本介紹
氧化鐿 是一種白色或略帶微綠色的無定形粉末,具有微吸溼性,易從空氣中吸收水和二氧化碳。其分子量爲394.08,熔點高達2346℃,沸點則達到4070℃。氧化鐿的密度約爲9.17g/cm3,相對密度較高,使得其在濺射過程中能夠 有效地傳遞能量,形成高質量的薄膜。此外,氧化鐿的化學性質穩定,不溶於水和冷的酸,但溶於熱的稀酸,這一特性使得其在磁控濺射過程中能夠保持穩定的化學組成,從而確保鍍膜的質量和性能。
物理性能
1、純度:氧化鐿靶材的純度對其性能和應用效果至關重要。高品質的氧化鐿靶材通常具有99.9%以上的純度,甚至可達到99.99%或 。高純度的氧化鐿靶材能夠減少雜質對薄膜性能的影響,提高薄膜的質量和穩定性。
2、密度:氧化鐿的密度爲9.17g/cm3,這一高密度特性使得其在濺射過程中能夠有效地傳遞能量,形成厚、緻密的鍍膜層。同時,高密度的氧化鐿靶材還具有優異的抗磨損和抗腐蝕性能,延長了鍍膜的使用壽命。
3、熔點:氧化鐿的熔點高達2346℃,是所有稀土氧化物中熔點較高的之一。這一高熔點特性使得氧化鐿靶材能夠在極高溫度下工作而不融化或變形,特別適合用於需要承受高溫的場合。
4、化學成份:氧化鐿靶材主要由鐿(Yb)和氧(O)兩種元素組成,化學式爲Yb2O3。其化學性質穩定,不易與其他元素發生化學反應,從而在鍍膜過程中能夠保持穩定的化學組成。
應用優勢
1、特殊合金與陶瓷材料:氧化鐿靶材可用於製備特殊合金和陶瓷電介質,這些材料在航空航太、電子工業等領域具有廣泛的應用。例如,氧化鐿可用於改善Ni-Zn-P合金鍍層的物理性能,提高鍍層的沉積速率和耐蝕性。
2、光學與電子工業:氧化鐿靶材在光學玻璃添加劑和電子工業中具有重要作用。它可用於製造計算機的磁泡材料,使磁泡貯存器具有高速度、大容量、小體積、多功能等特點。此外,氧化鐿還可用於熒光粉的生產,爲照明和顯示技術提供發光材料。
3、高溫結構材料:由於氧化鐿具有高的熔點和優異的化學穩定性,它可用於製備高溫結構陶瓷材料。例如,將氧化鐿添加到熔融石英陶瓷中,可以顯著提高陶瓷的耐高溫性能和機械強度。
4、催化劑與工業發光碳棒:氧化鐿還可作爲催化劑的組分,用於加速化學反應的進程。同時,它還可用於製造工業發光碳棒,爲照明和指示提供穩定的光源。
綜上所述,氧化鐿靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料,具有獨特的物理性能和廣泛的應用領域。其高純度、高密度、高熔點以及穩定的化學性質使得它在特殊合金、陶瓷材料、光學與電子工業、高溫結構材料以及催化劑等領域中發揮着重要作用。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展,氧化鐿靶材的需求量將會不斷增加,爲現代科技的發展提供有力的支持。
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