晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42
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產品詳情
“晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42”參數說明
| 是否有現貨： | 是 | 機器種類： | 等離子清洗機 |
| 清洗方式： | 等離子清洗 | 原理： | 等離子清洗 |
| 用途： | 工業用 | 工作頻率： | 13.56MHz |
| 工作電壓： | 380V | 功率： | 300W |
| 型號： | Vpc42 | 規格： | 350mm*350mm |
| 商標： | 中科同志 | 包裝： | 木箱 |
| 頻率： | 13.56MHz 300W | 清洗效果： | 達因值可達到70.水滴角15度 |
| 真空度： | 小於2 PA | 氣體環境： | 氬氣、氮氣、氧氣、氮 混合氣體、 、四氟化碳 |
| 真空腔體體積： | 42L | 單個承片臺面積： | 350*350mm |
| 產量： | 100 |
“晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42”詳細介紹
晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42基本介紹
-
- 設備名稱：真空等離子清洗機
- 型號：VPC42
- 原產地(國別、廠家)：北京中科同志科技股份有限公司
- 主要用於矽晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模組、帶治具的MEMS感測器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導體封裝領域的等離子表面處理工藝。
晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42性能特點
清洗效果:達因值可達到70.水滴角15度，可控制到10以內（百級無塵4小時以內）
晶片基板，器件封裝真空等離子清洗機 VPC42技術參數
2.1 真空腔體體積：42L
2.2 真空度：
VPC42真空等離子清洗機最高真空度小於2 Pa（機械幹泵 40L/Min）
2.3 有效清洗面積：
單個承片臺面積：350*350mm
15層：間隔15mm:40KHZ 2KW 中頻（表面處理）
5層：間隔50mm，13.56MHZ 300W 射頻（體積處理，帶水冷）
2.4 真空腔室高度：
爐膛高度350mm（有效尺寸）
2.5 清洗溫度：
低溫清洗（低於室溫）。
2.6 清洗節拍:30-120S
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