我公司設計的超純水設備採用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混牀除鹽水處理工藝，確保處理後的超純水水質確保處理後出水電阻率達到 18.2 M Ω 電子行業超純水設備 電子行業超純水設備【電子行業超純水設備】基本說明 我公司根據中國水質情況和電子行業半導體封裝工藝用水情況，超純水設備關鍵設備及材料均採用國際主流先進可靠產品，採用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其他同類產品相比較，具有 的性價比和設備可靠性。 我公司設計的超純水設備採用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混牀除鹽水處理工藝，確保處理後的超純水水質確保處理後出水電阻率達到 18.2 M Ω 【電子行業超純水設備】產品特點 電子行業超純水設備特點　　 爲滿足用戶需要，達到符合標準的水質，儘可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水爲源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、 RO 反滲透主機系統、離子交換混牀（ EDI 電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表 儀錶、電氣採用 PLC 可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其他同類產品相比較，具有 的性價比和設備可靠性。 【電子行業超純水設備】參數規格 電子行業超純水設備工藝 預處理→反滲透純水→中間水箱→水泵→EDI 超純水裝置→氮封純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混牀→ 0.2 或 0.5 μ m 精密過濾器→用水對象（≥ 18M Ω .CM ），我們有詳細的 CAD 工藝流程圖及設計製作圖紙 , 歡迎來電諮詢。 【電子行業超純水設備】適用範圍 半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路生產工藝用純水 電解電容 半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路生產工藝用純水 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗用純水　　 電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液用純水　　 顯像管和陰 線管生產、配料用純水　　   黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、溼潤、洗膜、管頸清洗用純水　　   液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液　　   電晶體生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配製　　   積體電路生產中高純水清洗矽片　　   LCD液晶顯示屏、 PDP 等離子顯示屏　　   高品質顯像管、螢光粉生產　　   半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗　　   超純材料和超純化學試劑、超純化工材料　　   實驗室和中試車間　　   汽車、家電表面拋光處理　　   光電產品、其他高科技精微產品器生產鋁箔及工作件的清洗　　   電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液　　   顯像管和陰 線管生產、配料用純水　　   黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、溼潤、洗膜、管頸清洗用純水　　   液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液　　   電晶體生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配製　　   積體電路生產中高純水清洗矽片　　   LCD液晶顯示屏、 PDP 等離子顯示屏　　   高品質顯像管、螢光粉生產　　   半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗　　   超純材料和超純化學試劑、超純化工材料　　   實驗室和中試車間　　   汽車、家電表面拋光處理　　   光電產品、其他高科技精微產品