一、設備用途

用於玻璃基片在H2S氣氛裏硫化等各種工藝。

二、產品簡介

  結構爲臥式，石英管腔體保證腔體清潔，前端可通入多種氣體，後端由真空泵獲得真空，並通過調節閥門來調節腔體內真空度。

用工業微機對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應室壓力實現自動控制。

採用進口壓力控制系統，閉環控制，穩定性高。 採用進口耐腐蝕不鏽鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。 具有完善的報 功能及互鎖裝置。 具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。

三、主要技術參數

結構：     單管臥式、雙管

工作溫度：   300～1200℃

真空度：   2Pa、10（-5）Pa

真空室直徑：Φ90～400mm

恆溫區長度：400～1000 mm

控制精度： ±1.0℃

加熱功率：   5～55 KVA

控制系統：   進口儀表 儀錶＋PLC＋觸摸屏

連鎖保護：超溫、斷偶、缺水、壓力異常保護報