s-SNOM技術使用金屬鍍層的原子力（AFM）探針針尖代替傳統光纖探針來增強樣品的納米尺度區域的散射，散射信號可以在遠場被檢測到。而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米級區域的複雜光學性質。具體而言，這些散射光的資訊包括光的振幅和相位，通過適當的模型，這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區域材料的光學常數（n，k）。在某些情況下，光學相位與波長還提供了一個與同種材料常規吸收光譜近似的光譜資訊。   

    瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡建立在基於具有先進地位的納米光學表徵工具原子力顯微鏡AFM的基礎之上。s-SNOM設計具有非常優秀的性能，高度集成，全面自動化，使用靈活，爲研究生產力和易用性設定了新的標準。

    瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡特別適用於硬質材料，特別是具有高反射率、高介電常數或強光學共振的材料。它與瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡（NanoIR）配合使用，可以完成對所有物質納米尺度的化學性質分析及探索。

    瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡的解析度僅由AFM針尖的曲率半徑決定，與入射光源的波長無關，能夠在可見、紅外和太赫茲光譜範圍內，提供 10nm空間解析度的光譜和近場光學圖像。

 

產品特點：

？ 10nm空間解析度近場成像和光譜；
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？ 特別的快速成像和採譜技術，10倍於傳統的空間光譜成像；
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？ 特別的背景 壓製技術和 光學信號收集技術，確保在10nm空間解析度下仍然保持極高的信噪比；
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？ 預先校準光路，操作極其簡便；
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？ 模組化設計，可拓展性強；

 

產品參數：

 

成像波段：900～2000cm-1，2235～3600cm-1

 

？空間解析度：10～100nm

 

應用：

        由於瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡和光譜譜圖的可靠性和可重複性，s-SNOM業已成爲納米光學領域熱點研究方向的優先選擇科研設備，廣泛適用於各種無機物和有機物，如表面等離子體、納米天線、2D材料（石墨烯，BN），納米結構，半導體，絕緣體，生命科學，高分子材料等，在等離基元、納米FTIR和太赫茲等衆多研究方向得到許多重要科研成果。