氧化鈮靶材

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我司的氧化鈮靶材採用先進的真空熱壓、熱等靜壓、冷壓燒結和熱噴塗工藝生產，產品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。

純度：99.99%；             

形狀：圓柱形、平面；          

冷壓燒結平面靶材尺寸：長寬範圍10-600毫米（可根據客戶的尺寸定製）。

管靶尺寸：外徑50-160mm，厚度4-17.5mm ；長度200-4000mm（可根據客戶的尺寸定製）            

 密度：4.3 g/cm3～4.5g/cm3 ，相對密度＞99%兩種             

電阻率：小於0.1 （20℃）              

工藝：氧化鈮旋轉靶採用等離子噴塗工藝，氧化鈮平面靶採用冷壓燒結、真空熱壓、熱等靜壓三種工藝均可提供              

用途：氧化鈮靶材，主要用於薄膜太陽能、光學玻璃鍍膜、觸摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低輻射玻璃）、半導體、觸摸屏、平板顯示器、工具裝飾鍍膜等。

 

 

 

氧化鈮靶

Niobium oxide target

性能

Product performance

化學成分/at%

Composition

Nb2Ox，x=4.5～4.8

純度/%

Purity

99.99

密度/g/cm3

Density

≥4.5

晶粒度/μm

Grain size

≤5

金屬雜質總和/ppm

Total content of metallic impurities

≤100

電阻率/Ω

Resistivity

5×10-4

規格尺寸/mm

Size

平面靶

Planar target

熱等靜壓/熱壓，≤500×250

Hot isostatic pressing/Hot pressing

旋轉靶

Rotating target

熱噴塗成形

thermal spraying

長度Length≤4000

厚度Thickness≤17.5