鉻旋轉靶材、鉻管靶

鉻管靶可加工成熱等靜壓（HIP）整體成型鉻管靶和噴塗鉻管靶，兩種鉻管靶相比，熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、緻密度高、鍍膜均勻緻密質量好等優點，缺點成本較高。

 

 

熱等靜壓鉻管靶

純度：99.8%

工藝：熱等靜壓一體成型高純鉻靶

常用規格：高純鉻管靶，高純鉻環靶，長度500~2000mm,直徑:70-155mm,管厚：3-10mm，按您的要求定做。

相對於傳統等離子噴塗，熱等靜壓管靶單邊 加厚，使用壽命 長是，傳統噴塗靶3倍，含氧量 低。

 

噴塗鉻管靶

成型工藝：熱等靜壓、噴塗

用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建築玻璃鍍膜

常規尺寸：ID125xOD145~155xL （mm）

 

 

性能

Product performance

噴塗鉻管靶材

Spraying chromium tube target

熱等靜壓整體成形鉻管靶材

Integral formingchromium tube target by HIP

氧含量/ppm

Oxygen content

≤5000

80-1500

鍍膜均勻性

Deposition uniformity

1.     整管軸向緻密度相差較大

2.     整爐上中下L、A、B值相差較大

3.     無法保證產品膜層的一致性

1.     The density of the tube target along the axial is different.

2.     The value of L, A and B is different in the whole furnace.

3.     The consistency of the product film can not be guaranteed

1.     整管均勻性高

2.     密度接近於純金屬熱擠壓密度，管材通體密度一致

3.     無鬆散區、無暗區

4.     PVD膜層的厚度及顏色的一致性好

5.     整爐上中下L、A、B值統一性好

1.     High uniformity of the whole tube

2.     The density of the whole tube target is close to hot extrusion density and is consistent

3.     No loose area and dark area

4.     The consistency of the thickness and color of the PVD film is good

4.     The values of L, A and B in the whole furnace are good.

5.     The value of L, A and B is consistent in the whole furnace.

鍍膜電流密度

Deposition current density

無法實現大電流長時間工作

Can not work for a long

大功率長時間穩定工作

Can steadily work for a long time under high power  time at large current