高純鋁靶材-鋁管靶-真空熔鍊工藝
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產品詳情
“高純鋁靶材-鋁管靶-真空熔鍊工藝”參數說明
| 是否有現貨： | 否 | 種類： | 濺射靶材 |
| 表面處理： | 刨光 | 工藝分類： | 真空熔鍊 |
| 型號： | 多種型號 | 規格： | 多種規格 |
| 商標： | AEM | 包裝： | 小件真空袋包裝，外紙箱包裝 |
“高純鋁靶材-鋁管靶-真空熔鍊工藝”詳細介紹
鋁靶材、鋁管靶、平面鋁靶材、鋁顆粒
純度：99.95-99.9995%；
鋁旋轉靶採用真空熔鍊工藝，可生產 長度4000mm，厚度根據客戶要求定製。
鋁平面靶採用真空熔鍊工藝，可生產 長度2500mm， 寬度400mm，尺寸可根據客戶要求加工。
應用領域：薄膜太陽能工業，低輻射玻璃工業，平板顯示工業，光學鍍膜工業，工具及裝飾鍍膜工業。
名 稱：高純鋁靶、鋁顆粒、鋁管靶
熔 點：660.4℃
符 號：Al
沸 點：2519℃
原子量：26.98
密 度：2.70g/cm3
純 度：3N 4N 5N 5N5
產品名稱
狀態
純度
尺寸
包裝
高純鋁
靶材
5N 5N5
1-10英寸，可定製
片
高純鋁
顆粒
5N 5N5 6N
φ3*3mm，φ6*6mm
100g
高純鋁
絲狀
5N 5N5
φ0.1-5mm
100g
高純鋁
片狀
5N 5N5
0.03-10mm
1kg
產品優點
不純物元素含量極低，導電性能好，光反射性能好，延展性好，耐腐蝕性能優良。
產品用途
晶片製造用靶材，先進封裝用靶材。
產品包裝
真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
製作工藝
通過控制晶粒的生長形態的偏析法提純工藝，用於高純鋁， 純鋁的提純。
適用儀器
多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
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