PIS210-2鍍膜機：腔體結構由裝載腔室+真空鍍膜工藝強勢組合而成；鍍膜工藝系統由純離子鍍膜（PIC）+離子束清洗（IONBEAM）組合而成。本設備爲全自動設備。模組化控制，操作簡單、維護方便，一鍵式操作即可完成多層鍍膜膜沉積，適合光學鏡頭模具等產品的鍍膜。

1、腔體結構由一個裝載腔室和一個真空鍍膜工藝腔室組合而成；

2、裝載腔室裝載的同時鍍膜工藝腔室同步進行抽真空，縮短了鍍膜前處理時間，提高工作效率；

3、裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設計採用插板閥隔開，可以有效隔斷，穩定工藝氣體；

4、傳動採用磁導向，保障傳動的穩定性。採用變頻調速電機驅動，運行速度可調節。

1、PIC配有電磁掃描系統和過濾系統，離子束能量和方向可調，可將等離子體中的雜質顆粒、宏觀粒子、大型離子團等過濾乾淨，並且可以過濾掉大顆粒，因此制出的納米薄膜非常緻密且平整光滑，抗腐蝕性能好，與工件的結合力很強，在均勻性、緻密性、結合度、硬度、摩擦係數、改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得里程碑式的突破；

2、純離子鍍膜技術是低溫工藝，鍍膜過程可以控制在80 C以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產生高溫，因此可以應用於塑料、橡膠等產品；

3、作爲純離子鍍膜重要應用之一的類金剛石DLC鍍膜，膜層可以達到75%以上的（金剛石鍵）SP3鍵，其物理化學性質和金剛石極其類似，所以薄膜具有高的硬度（>75GPa）,極低的摩擦係數（<0.1），耐腐蝕性、光學透明度等一系列優異特徵。可將鍍膜件（基體）使用延長7-10倍。

 

 註明：以上資料來源於安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果