鍍膜機-真空鍍膜設備
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產品詳情
“鍍膜機-真空鍍膜設備”參數說明
| 別名： | 純離子真空鍍膜設備 | 是否有現貨： | 是 |
| 品牌： | 安徽純源 | 用途： | 功能性塗層 實現基材產品本身不具備的性能 |
| 自動化程度： | 全自動 | 是否加工定製： | 是 |
| 電流： | 脈衝 | 型號： | 按需定製 |
| 規格： | 按需定製 | 商標： | 純源 |
| 膜層厚度： | 納米、微米 | 鍍膜溫度： | 低溫鍍膜 |
| 產量： | 10 |
“鍍膜機-真空鍍膜設備”詳細介紹
鍍膜機-真空鍍膜設備基本介紹
PIS系列純離子鍍膜設備(如圖)主要是集純離子鍍膜技術(PIC)、高能離子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射技術(SPUTTER)三種技術融合於一體，其純離子鍍膜源，利用 的電磁過濾系統和電磁掃描系統有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團等雜質，大幅度提高等離子東流純度，使膜層 加緻密硬度 ，耐磨性和耐腐蝕性也 優異。可以鍍制厚度範圍從幾百納米到二十多微米的超級類金剛石a-C膜層
鍍膜機-真空鍍膜設備性能特點
系列設備主要是（集）純離子鍍膜技術（PIC）、 高能離子束清洗技術（IONBEAM）和磁控濺射技術（SPUTTER）三種技術融合一體，可適應廣泛鍍膜靶材，無論金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜，使膜層具有高緻密度、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點。可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超級類金剛石膜（TAC、DLC）、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和複合膜層。可編程式控制器（PLC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統，全自動控制。
鍍膜機-真空鍍膜設備技術參數
鍍膜機-真空鍍膜設備使用說明
全自動化工藝控制系統
鍍膜機-真空鍍膜設備採購須知
註明：以上資料來源於安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果
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