二氧化矽混合機，二氧化矽混合設備，二氧化矽分散設備，粉液混合機，氣相二氧化矽分散難點，IKN分散設備，分散設備工作原理

二氧化矽的用途很廣。自然界裏比較 的水晶可用以電子工業電子的重要部件、光學儀器和工藝品。氣相法二氧化矽是極其重要的高科技超微細無機新材料之一，由於其粒徑很小，因此比表面積大，表面吸附力強，表面能大，化學純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能，以其優越的穩定性、補強性、增稠性和觸變性，在衆多學科及領域內獨具特性，有着不可取代的作用。氣相二氧化矽質量小,很輕,極易飛揚,廣泛應用於化妝品和農藥行業。通常用作補強劑,穩定劑或粘度調節劑。 

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二氧化矽的分散難點

二氧化矽加工的難點在於溼化並達到相應的粘度。而且和水（溶劑）混合後容易團聚，IKN在這個行業擁有豐富的經驗,能夠滿足不同客戶的要求。

IKN混合設備在二氧化矽的分散中的優勢

①消除粉塵。IKN爲氣相二氧化矽與水的混合,設計多種解決方案。粉體直接從包裝袋中吸入,或者可以跟您的工程師一起特殊定製工藝。

②改善容器清潔問題。使用IKN在線粉體液體混合系統,能夠消除容器壁的物料殘留,改善清潔,並減少原材料浪費。

③最大化成分功能。很多公司在溼化二氧化矽工藝上都遇到困難,通常需要足夠的剪切力來達到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供這種類型的剪切分散機,爲氣相二氧化矽溼化混合提供足夠的剪切力。
二氧化矽混合機，二氧化矽混合設備，二氧化矽分散設備，粉液混合機，氣相二氧化矽分散難點，IKN分散設備，分散設備工作原理IKN混合設備粉液混合機的概述
面對粉末難易團聚，難以分散，粉塵飛揚的粉體處理工藝中 常見的問題，IKN依肯研發了PLD2000系列產品，專門用於解決粉液在線混合分散的問題。

PLD2000設備的特殊結構和工作原理：裝備了一個特別設計的轉子，一個入口進液體，一個入口進粉體，使兩相在瞬間接觸時就能及時的將粉體打散。機器可以迴圈操作直到所有粉末加入完畢，然後密封加料入口，在腔體中繼續分散混合。根據產品要求，粉末的性狀， 添加量可達80%。另外，如果粘度過高，也可在入口前加一臺泵。
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