多弧離子鍍膜機是一種無害的離子鍍膜設備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產量大的長處

 

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業原理：
       離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關於導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈衝偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈衝電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發射，發射電子炮擊氣體分子，使之電離，並且氣體被驅出的電子被電場加快，持續電離別的氣體分子，接二連三，構成雪崩效應，氣體被擊穿，構成穩定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅除出外表，並堆積在樣品外表。