供應優質鈦靶 濺射靶材 高純鈦靶
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產品詳情
“供應優質鈦靶 濺射靶材 高純鈦靶”參數說明
| 是否有現貨： | 是 | 結構： | α鈦合金 |
| 鈦含量： | 99.7 | 型號： | TA1/TA2 |
| 規格： | Φ100*40，Φ98*40 | 商標： | 勝邦鈦業 |
| 包裝： | 木箱包裝 | 產量： | 890 |
“供應優質鈦靶 濺射靶材 高純鈦靶”詳細介紹
鈦 靶
一、牌號
國內牌號：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11 。
美標牌號：GR1、GR2、GR3、GR5、GR7、GR11。
二、靶材的主要性能要求: （1）純度 純度是靶材的主要性能指標之一，因爲靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。 （2）雜質含量 靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對鹼金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 （3）密度 爲了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響着薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能 地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。 （4）晶粒尺寸及晶粒尺寸分佈 通常靶材爲多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對於同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分佈均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分佈 均勻。
三、加工工藝 鍛造、軋製。
四、表面 車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。
五、規格 Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規格可按客戶要求製作。
六、執行標準 國標：GB/T 16598，GB/T2965 。 美標：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
七、檢測 破壞性檢測：物理性能測試，硬度測試，化學成分測試。 無損檢測：超聲檢測，滲透檢測，外觀檢測。
一、牌號
國內牌號：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC11 。
美標牌號：GR1、GR2、GR3、GR5、GR7、GR11。
二、靶材的主要性能要求: （1）純度 純度是靶材的主要性能指標之一，因爲靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。 （2）雜質含量 靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對鹼金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 （3）密度 爲了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響着薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強度使靶材能 地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。 （4）晶粒尺寸及晶粒尺寸分佈 通常靶材爲多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對於同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分佈均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分佈 均勻。
三、加工工藝 鍛造、軋製。
四、表面 車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。
五、規格 Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規格可按客戶要求製作。
六、執行標準 國標：GB/T 16598，GB/T2965 。 美標：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
七、檢測 破壞性檢測：物理性能測試，硬度測試，化學成分測試。 無損檢測：超聲檢測，滲透檢測，外觀檢測。
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