• 簡介

 

EVG公司成立於1980年，公司總部和製造廠位於奧地利，在美國、日本和臺灣設有分公司，並在其他各地設有銷售代理及售後 部，產品和 遍及世界各地。

EVG公司是一家致力於半導體製造設備的全球供應商，其豐富的產品系列包括：塗膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統、基片清洗機、基片檢測系統、SOI 基片鍵合系統、基片臨時鍵合/分離系統、納米壓印系統。

目前已有數千臺設備安裝在世界各地，被廣泛地應用於MEMS微機電系統/微流體器件，SOI基片製造，3D封裝，納米壓印，化合物半導體器件和功率器件等領域。

EVG是世界上爲數不多的可以商業化納米壓印設備的 公司，可爲客戶提供完整的納米壓印方案，包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其專利的極其優異的對準技術和世界領先的熱壓技術爲納米壓印的成功實施打下了堅實的基礎。

EVG620紫外納米壓印用於從印章到襯底的紫外圖形轉移。EVG620自動納米壓印系統允許襯底和印章的尺寸從很小的晶片到150mm直徑的圓片範圍。用於納米技術應用的配置包括印章機械釋放、程序控制高或低的接觸壓力。EVG獨有的吸盤設計支持軟印章和硬印章壓印，可以保證大面積納米壓印的均勻壓力，從而保證獲得很高的良率。

 

 

二、應用範圍

納米壓印技術主要應用於如下方面：

LEDS 製作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；晶片實驗室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應；光子帶隙；光學及通訊：光晶體， 射器件；生物技術解決方案：醫藥分析，血液分析，細胞生長。

三、主要特點

21. 適用於紫外納米壓印和微接觸印刷；
21. 紫外光曝光；
21. 配備專用的紫外納米壓印工具；
21. 適於軟或硬印章壓印；
21. 適用襯底：Si，玻璃，化合物半導體；

 

四、技術參數

21. 襯底尺寸：

10 mm x 10 mm，2"，3"，100mm，150mm；厚度：0.1 - 10mm

21. 印章參數：

25 mm x 25 mm，  150 mm；厚度： <7mm

21. 系統配置：

標準桌面系統，可選系統導軌，被動式振動隔離

21. 對準精度：

上部對準：± 1.0μm 3σ；通過使用專用的摩爾紋對準鍵，可實現± 100nm。大間隙對準可選：± 1.5μm 3σ

21. 對準臺：

精密微米計：手動，電動可選； 契型補償：內部0.5-40N接觸壓力

21. 曝光：

模式：軟或真空接觸；解析度：< 50 nm, 主要與印章的關鍵尺寸有關；

波長：200 - 240 nm / 240 - 280 nm / 280 - 350 nm / 350 - 450 nm, 濾鏡可選；

汞弧燈：350 / 500 / 1000 W。

21. 自動對準：可選；
21. 處理系統：3花籃臺，5花籃臺（可選），現場可升級
21. SECS/GEM II: 可選。