產品品牌：普洛爾。
　　
　　工藝流程
　　
　　1、採用離子交換方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂牀→陰樹脂牀→陰陽樹脂混合牀→微孔過濾器→用水點
　　
　　2、採用兩級反滲透方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透主機→PH調節→混合器→二級反滲透主機（反滲透膜表面帶正電荷）→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
　　
　　3、採用反滲透加EDI方式，其流程如下（工藝）：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節系統→混合器→精密過濾器→反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
　　
　　
　　三種工藝比較
　　
　　製備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種，其餘的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列於下面 下麪：
　　種採用傳統的離子交換樹脂其優點在於初次，佔用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸鹼，而且對環境有一定的破壞。
　　種採用反滲透＋離子交換設備，其特點爲初次投資比採用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生週期相對要長，耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。是比較經濟與流行的一種工藝。
　　種採用反滲透作預處理再配上電去離子裝置，這是目前超純水，環保的工藝，不需要用酸鹼進行再生便可連續超純水，對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初次投資相對以上兩種方式過於昂貴。
　　
　　
　　設備特點
　　
　　電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混牀（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水箱、超純水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表 儀錶、電氣採用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其他同類產品相比較，具有的性價比和設備可靠性。
　　
　　電路板用設備
　　
　　主要應用
　　
　　1.
　　大型積體電路元器件的生產用水，一般電阻率均大於18MO-CM.按國家有關用水標準（GB/T146.1-1997）執行。
　　
　　2.
　　電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中（即GB/T146.1-1997）有可爲四級（一級高電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低於15MO-CM。
　　3.級電阻率12MO-CM，
　　4級爲0.5MO-CM）。
　　
　　技術特徵
　　電子級超純水
　　
　　可連續自動生產，不機再生
　　
　　出水質優於常規離子交換法
　　
　　不需酸鹼再生，不污染環境
　　
　　運行成本低，佔地面積小
　　
　　
　　應用領域
　　
　　1、半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路成品、半成品用超純水；
　　
　　2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；
　　
　　3、實驗室和中試車間用超純水；
　　
　　4、汽車、家電表面拋光處理；
　　
　　5、光電子產品；
　　
　　6、其他高科技精微產品。
　　
　　進水指標
　　
　　◎通常爲單級反滲透或二級反滲透的滲透水。
　　
　　◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm.
　　
　　◎電導率：<40μS/cm.
　　
　　◎PH：6.0～9.0.當總硬度低於0.1ppm時，EDI工作的pH範圍爲8.0～9.0.
　　
　　◎溫度：5～35℃。
　　
　　◎進水壓力：<4bar（60psi）。
　　
　　◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm.
　　
　　◎有機物（TOC）：<0.5ppm.
　　
　　◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm.
　　
　　◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm.
　　
　　◎H2S：<0.01ppm.
　　
　　◎二氧化矽：<0.5ppm.
　　
　　◎色度：<5APHA.
　　
　　◎二氧化碳的總量：<10ppm
　　
　　◎SDI　15min：<1.0.［2］