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倒裝晶片FC光刻膠 高壓晶片 垂直角度 耐高溫
倒裝晶片FC光刻膠 高壓晶片 垂直角度 耐高溫

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“倒裝晶片FC光刻膠 高壓晶片 垂直角度 耐高溫”參數說明

是否有現貨: 認證: Www.Guangkejiao.COM
加工定製: 種類: 化合物半導體
特性: Gan基LED光刻膠 用途: Gan on gan晶片工藝
型號: SIP封裝光刻膠 規格: 量子點光刻膠
商標: Lift-off工藝光刻膠 包裝: Mems感測器光刻膠
產量: 1000

“倒裝晶片FC光刻膠 高壓晶片 垂直角度 耐高溫”詳細介紹

適用於低溫固化光刻膠 高效率低能量曝光
高遮蔽黑色光刻膠 高OD值 高解析度
納米銀光刻膠 耐刻蝕 高解析度
矽片切割研磨減薄保護膠 旋塗熱固型 平整度好
低介電係數絕緣光刻膠 透明**材料
MEMS Optical Overcoat、 Passivation光刻膠
MEMS 微機電 感測器封裝光刻膠
絕緣柵型光刻膠 掩模版光刻膠 電晶體光刻膠
薄膜電阻光刻膠 LCP材質FPC天線工藝光刻膠
無毒光刻膠增粘劑 替代HMDS 微電鑄的工藝光刻膠 高深寬比
光波導 光學互聯光刻膠 微流體光刻膠 微光學光刻膠
薄膜磁頭線圈絕緣層光刻膠 薄膜壓力感測器工藝光刻膠
蒸鍍剝離工藝 連續非球面微透鏡陣列光刻膠
Lift-off工藝製備壓電薄膜加速度感測器電極光刻膠
AZ5214E反轉光刻膠 製作 慣性微開關 正性 厚膠光刻膠
LDI應用光刻膠 DMD應用光刻膠 高感度 曝光速度快 高解析度

現貨供應大學研究所 正性 負性 電子資訊 光刻膠 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度
現貨供應中科院 正性 負性 幹膜 光刻膠 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高產出率
現貨供應 研究所 正性 負性 報告 光刻膠 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 幹法刻蝕
現貨供應 光電實驗室 正性 負性 聚酯型 光刻膠 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 寬膜厚
現貨供應光機所 正性 負性 資訊 光刻膠 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分穩定

現貨供應大學研究所 正性 負性 厚漿 光刻膠 PR 安智AZ AZ1500 附着性好
現貨供應中科院 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ1500 溼法刻蝕
現貨供應光電實驗室 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ1500 成份穩定
現貨供應光機所 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
現貨供應研究所 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ1500 應用廣泛

 

現貨供應大學研究所 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ3100 G線I線通用
現貨供應中科院 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ3100 附着性好
現貨供應光電實驗室 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ3100 幹法刻蝕,溼法刻蝕
現貨供應研究所 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ3100 G線I線通用
現貨供應光機所 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ3100 刻蝕工藝 應用廣泛

現貨供應大學研究所 圓片級封裝(WLP) 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 解析度高
現貨供應中科院 圓片級封裝(WLP) 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 高縱寬比
現貨供應光電實驗室 圓片級封裝(WLP) 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 附着性好
現貨供應光機所 圓片級封裝(WLP) 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 電鍍工藝高耐受性
現貨供應研究所 圓片級封裝(WLP) 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸點UBM工藝

 

現貨供應大學研究所 圓形化襯底(PSS)正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZGXR-601 G線I線通用
現貨供應中科院 圓形化襯底(PSS)正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
現貨供應光電實驗室 圓形化襯底(PSS)正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZGXR-601 高產出率
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現貨供應光機所 圓形化襯底(PSS)正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZGXR-601 成分穩定

現貨供應大學研究所 lift-off工藝 正性 負性 光刻膠 蒸鍍 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
現貨供應中科院 lift-off工藝 正性 負性 光刻膠 蒸鍍 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 解析度好
現貨供應光電實驗室 lift-off工藝 正性 負性 光刻膠 蒸鍍 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 寬膜厚範圍
現貨供應光機所 lift-off工藝 正性 負性 光刻膠 蒸鍍 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/負反轉
現貨供應研究所 lift-off工藝 正性 負性 光刻膠 蒸鍍 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高

現貨供應大學研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高對比度
現貨供應中科院 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
現貨供應光電實驗室 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分穩定
現貨供應光機所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 論文驗證
現貨供應研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高

現貨供應大學研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高對比度
現貨供應光電實驗室 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
現貨供應光機所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
現貨供應研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 論文驗證
現貨供應中科院 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 應用廣泛

現貨供應大學研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4903 高對比度
現貨供應光電實驗室 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
現貨供應光機所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
現貨供應研究所 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4903 論文驗證
中科院 電鍍工藝 高耐受性 正性 負性 光刻膠 PR 安智AZ AZP4903 應用廣泛

現貨供應光刻膠 顯影液 剝離液 去膜劑 AZ400K AZ300MIF 無需表面活性劑
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