藥物晶種溼法研磨分散機
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“藥物晶種溼法研磨分散機”參數說明
| 是否有現貨： | 是 | 分散機類型： | 研磨分散機 |
| 物料類型： | 固-液 | 適用物料： | 其他 |
| 品牌： | Sid/希德 | 應用領域： | 其他 |
| 速度類別： | 無級變速 | 調速範圍： | 0-14000r/min |
| 分散輪直徑： | 55mm | 升降行程： | 0-100mm |
| 產品類型： | 全新 | 變速方式： | 變頻變速 |
| 速度範圍： | 1200rpm以上 | 罐容量： | 0-1000L |
| 外形尺寸(長*寬*高)： | 450*350*750mm | 整機重量： | 50kg |
| 型號： | Gmd2000 | 商標： | Sid/希德 |
| 包裝： | 木箱 | 產量： | 999 |
“藥物晶種溼法研磨分散機”詳細介紹
藥物晶種溼法研磨分散機基本介紹
藥物晶種溼法研磨分散機性能特點
溼法研磨分散設備採用高速研磨分散技術，通過高轉速（高可達18000rpm）帶動高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使晶種在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙裏不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。
GMD2000系列研磨分散機爲立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時採用德國博格曼雙端面機械密封，並通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到 低，保證機器連續24小時不停機運行。
藥物晶種溼法研磨分散機技術參數
| 研磨分散機 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
| 類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
| GMSD 2000/4 |
300 |
18,000 |
50 |
4 |
DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 |
1000 |
13,000 |
50 |
11 |
DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 |
3000 |
9,200 |
50 |
22 |
DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 |
8000 |
2,850 |
50 |
37 |
DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 |
20000 |
1,420 |
50 |
55 |
DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 |
60000 |
1,100 |
50 |
110 |
DN200/DN150 |
藥物晶種溼法研磨分散機使用說明
藥物晶種溼法研磨分散機採購須知
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