TiB2二硼化鈦

二硼化鈦靶材（Titanium Boride, TiB2）作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在現代材料科學與技術領域扮演着重要角色。其物理和化學性質，以及在磁控濺射過程中的表現，使得二硼化鈦靶材在多個高科技領域具有廣泛的應用前景。以下是對二硼化鈦靶材的詳細介紹，包括其基本特性、物理性能以及行業應用優勢。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產硼化物靶材材料如下：

BORIDES 硼化物
Aluminum Boride(AlB2)	Rare Earth Borides
Chromium Boride (CrB)	Tantalum Boride (TaB2)
Hafnium Boride (HfB2)	Titanium Boride (TiB2)
Lanthanum Boride (LaB6)	Tungsten Boride (W2B)
Molybdenum Boride (MoB)	Vanadium Boride (VB2)
Niobium Boride (NbB)	Zirconium Boride (ZrB2)

基本介紹

二硼化鈦（TiB2）是一種灰色或灰黑色的粉末狀材料，具有六方硼化鋁（AlB2）的晶體結構。它是硼和鈦形成的穩定的化合物之一，化學式爲TiB2，分子量約爲69.49（也有資料給出稍有不同的數值，如73.52，這可能是由於計算方法和精度的不同）。二硼化鈦靶材具有高熔點、高硬度、良好的耐磨性和耐腐蝕性，這些特性使其在磁控濺射過程中表現出色，能夠製備出高質量的薄膜。

物理性能

1、純度：
二硼化鈦靶材的純度對其性能至關重要。高純度的二硼化鈦靶材（通常要求99.9%以上）能夠確保濺射薄膜的純淨度和性能穩定性。低雜質含量有助於減少濺射過程中的污染，提高薄膜的均勻性和一致性。高純度的二硼化鈦靶材在製備高性能、高可靠性的薄膜器件方面具有顯著優勢。

2、密度：
二硼化鈦靶材的密度約爲4.52g/cm3（也有資料給出稍有不同的數值，如4.50g/cm3，這同樣可能是由於測量方法和條件的不同）。這一密度特性使得靶材在濺射過程中能夠保持良好的機械穩定性和濺射效率。高密度的靶材可以提供高的沉積效率和均勻的薄膜，有助於提升 終產品的性能。

3、熔點：
二硼化鈦靶材的熔點極高，通常在2900℃至3225℃之間。這一特性使得二硼化鈦靶材在高溫濺射環境中能夠保持穩定，不易熔化或變形。因此，在製備需要高溫穩定性的薄膜時，二硼化鈦靶材具有顯著優勢。

4、化學成份：
二硼化鈦靶材的主要化學成份是鈦（Ti）和硼（B），以TiB2的形式存在。其化學性質相對穩定，但在某些條件下可能與酸或鹼發生反應。因此，在製備和使用過程中需要嚴格控制環境條件，以避免靶材的化學變化影響濺射薄膜的性能。

行業應用優勢

1、導電陶瓷材料：
二硼化鈦靶材具有優異的導電性能，是製備導電陶瓷材料的重要原料之一。這些導電陶瓷材料在電子封裝、微電子器件等領域中具有廣泛應用，如真空鍍膜導電蒸發舟的主要原料就是二硼化鈦。

2、陶瓷切削刀具及模具：
由於二硼化鈦具有高硬度和良好的耐磨性，因此它是製造精加工刀具、拉絲模、擠壓模、噴砂嘴等陶瓷切削刀具及模具的理想材料。這些刀具和模具在機械加工、金屬切割等領域中具有重要作用。

3、複合陶瓷材料：
二硼化鈦可以作爲多元複合材料的重要組元，與TiC、TiN、SiC等材料組成複合材料，製作各種耐高溫部件及功能部件。這些複合材料在高溫環境、惡劣工況下仍能保持良好的性能，因此在航空航太、軍事等領域中具有廣泛應用。

4、鋁電解槽陰極塗層材料：
二硼化鈦與金屬鋁液具有良好的潤溼性，因此可以用作鋁電解槽陰極塗層材料。這種塗層材料能夠降低鋁電解槽的耗電量，延長電解槽的使用壽命，從而提高鋁電解的生產效率和經濟效益。

5、其他領域：
此外，二硼化鈦靶材還可以用於製作PTC發熱陶瓷材料和柔性PTC材料，具有 、省電、可靠、易加工成型等特點。同時，它也是Al、Fe、Cu等金屬材料很好的強化劑，能夠顯著提高這些金屬材料的強度和韌性。

綜上所述，二硼化鈦靶材以其獨特的物理性能和廣泛的應用前景，在現代材料科學與技術領域展現出了巨大的潛力和價值。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，二硼化鈦靶材的性能將進一步提升，其應用也將廣泛和深入。

 

碳化鈦TiC（Titanium Carbide）

碳化鈦（Titanium Carbide，簡稱TiC）靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在材料科學和工程領域展現出了廣泛的應用前景和獨特的優勢。以下是對碳化鈦靶材的基本介紹、物理性能以及行業應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產碳化物靶材材料如下：

CARBIDES 碳化物
Aluminum Carbide (Al4C3)	Tantalum Carbide (TaC)
Boron Carbide (B4C)	Titanium Carbide (TiC)
Chromium Carbide (Cr3C2)	Tungsten-Cobalt Carbide (WC-Co)
Hafnium Carbide (HfC)	Tungsten Carbide (WC)
Molybdenum Carbide (Mo2C)	Vanadium Carbide (VC)
Niobium Carbide (NbC)	Zirconium Carbide (ZrC)

基本介紹

碳化鈦靶材是一種由鈦和碳元素組成的化合物，其化學式爲TiC，分子量爲59.89。這種材料通常以灰色金屬粉末或塊狀形式存在，具有立方晶繫結構。碳化鈦靶材採用常壓燒結、氣氛燒結、熱等靜壓燒結等工藝製備而成，通過嚴格控制原料的純度、成分及成型坯料的設計尺寸，坯料經過精密機械加工後成爲靶材。此外，碳化鈦靶材還可以根據客戶的要求定製加工特殊摻雜比例的靶材。

物理性能

1、純度：碳化鈦靶材的純度通常可達99.9%以上，高純度靶材能夠確保鍍膜的質量和性能。

2、密度：碳化鈦的密度爲4.93 g/cm3（在25℃下測量），這一密度值使得碳化鈦靶材在磁控濺射過程中具有良好的穩定性和均勻性。

3、熔點：碳化鈦的熔點高達3140℃，這一高熔點特性使得碳化鈦靶材在高溫環境下仍能保持其物理和化學性質的穩定性。

4、硬度：碳化鈦的硬度極高，僅次於金剛石，這使得碳化鈦靶材成爲理想的耐磨材料。

5、化學成份：碳化鈦由鈦和碳元素組成，其中鈦和碳通過離子鍵、共價鍵和金屬鍵混合在同一晶體結構中，這種特殊的鍵型結構賦予了碳化鈦許多獨特的性能。

行業應用優勢

1、高性能鍍膜：碳化鈦靶材在磁控濺射鍍膜過程中能夠形成高質量、高硬度的鍍膜層。這種鍍膜層具有優異的耐磨性、耐腐蝕性和高導電性，廣泛應用於刀具、切削工具、軸承等高強度應用領域。

2、高溫穩定性：碳化鈦靶材的高溫穩定性使其在高溫熱障塗層、高溫陶瓷和耐火材料等領域具有廣泛的應用。這些材料能夠在高溫環境下保持其物理和化學性質的穩定性，從而提高設備的可靠性和使用壽命。

3、化學穩定性：碳化鈦靶材具有良好的化學穩定性，能夠抵抗許多常見的化學腐蝕，包括酸、鹼以及一些有機溶劑。因此，碳化鈦靶材可用於製備耐腐蝕塗料、防腐蝕材料和化學催化劑等領域。

4、定制 ：碳化鈦靶材的定制 使得客戶可以根據具體需求調整靶材的純度、摻雜比例和規格。這種靈活性使得碳化鈦靶材能夠滿足不同應用領域對材料性能的特殊要求。

5、廣泛的應用領域：除了上述應用領域外，碳化鈦靶材還廣泛應用於航空航太、電子、光學塗層、聚變堆中的抗 塗層以及掘進機截齒塗層等領域。在這些領域中，碳化鈦靶材以其優異的性能爲設備的性能提升和可靠性提供了有力保障。

綜上所述，碳化鈦TiC靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在物理性能和行業應用方面均表現出獨特的優勢。隨着科技的不斷發展和進步，碳化鈦靶材的應用領域將不斷拓展和深化，爲材料科學和工程領域的發展做出 的貢獻。