蘇州中之納半導體科技有限公司

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經營模式: 生產製造

所在地區: 江蘇省  蘇州市

認證資訊: 身份認證

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蘇州中之納半導體科技有限公司是金屬磁控濺射鍍膜靶材,合金靶材,陶瓷旋轉靶材的優良生產製造廠家,竭誠爲您提供全新的Zr 鋯靶材 磁控濺射 蒸發顆粒 鍍膜靶材,氧化錫鋅靶材ZnSnO1 科研實驗 濺射鍍膜, 靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶等系列產品。

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靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶

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   靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶    靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶
   靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶

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產品詳情

“ 靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶”參數說明

是否有現貨: 加工定製:
種類: 其他 特性: 氧化物
用途: PVD磁控濺射靶材 型號: ZnO-01
規格: 圓、片、塊、綁定 商標: Szzzna
包裝: 真空包裝 產量: 10000

“ 靶材ZnO 科研實驗材料 磁控濺射靶”詳細介紹

ZnO)靶材

ZnO)靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料,在科學研究和工業應用中佔據着重要地位。 是一種白色粉末,屬於二元金屬氧化物,具有顯著的化學穩定性和多功能性質。以下是對 靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。我司深耕靶材領域十年,專注技術研發與生產,鑄就行業精品。公司生產氧化物靶材材料如下:

OXIDES 氧化物

Aluminum Oxide (Al2O3)

Magnesium Oxide (MgO)

Antimony Oxide (Sb2O3)

Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)

Barium Titanate (BaTiO3)

Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)

Bismuth Oxide (Bi2O3)

Molybdenum Oxide (MoO3)

Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)

Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)

Cerium Oxide (CeO2)

Nickel-Cobalt Oxide(NiCoO2)

Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)

Niobium Pentoxide (Nb2O5)

Chromium Oxide (Cr2O3)

Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3

Chromium Oxide (Eu doped)

Rare Earth Oxides (La2O3)

Gallium Oxide (Ga2O3)

Silicon Dioxide (SiO2)

Germanium Oxide (GeO3)

Silicon Monoxide (SiO)

Hafnium Oxide (HfO2)

Tantalum Pentoxide (Ta2O5)

Indium Oxide (In2O3)

Tin Oxide (SnO2)

Indium-Tin Oxide (ITO)

Titanium Dioxide (TiO2)

Iron Oxide (Fe2O3)

Tungsten Oxide (WO3)

Lanthanum Oxide(La2O3)

Yttrium Oxide (Y2O3)

Lead Titanate(PbTiO3)

Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)

Lead Zirconate (ZrPbO3)

Zinc Oxide (ZnO)

Lithium Niobate (LiNbO3)

Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)

Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)

Zirconium Oxide (ZrO2)

1 靶材以其高純度和化學穩定性著稱,能夠在極端環境下保持化學組成不變,這是高質量薄膜製備的基礎。通常, 靶材的純度要求高,例如99.99%或 ,因爲雜質的存在會影響 終薄膜的電學和光學性質。高純度原料的選用是保證 終靶材質量的首要步驟。

2在物理性能方面, 靶材的密度約爲5.6g/cm3,熔點高達1975°C,沸點爲2360°C。其分子式爲OZn,分子量爲81.408,具有獨特的理化性質。 是一種難溶於水的物質,但可以溶於酸和強鹼,表現出兩性氧化物的特性。在空氣中, 會吸收二氧化碳和水,生成碳酸鋅而呈現黃色,加熱時變黃,冷卻後又恢復白色。

3 靶材之所以能在磁控濺射技術中得到廣泛應用,主要得益於其優良的物理特性。首先, 靶材具有良好的晶格結構穩定性,這保證了在濺射或蒸發過程中能夠穩定地提供原子。其次,較高的熱導率使得 在熱處理過程中能夠有效地分散熱量,減少熱應力,這對於保持靶材結構的完整性至關重要。再者, 作爲n型半導體,具有寬頻隙和高電子遷移率,使其在製造半導體器件中具有顯著優勢。此外, 還展現出獨特的透明導電性,能同時傳遞光線和電流,這一特性使其在液晶顯示器和太陽能電池領域具有重要應用。

4在磁控濺射過程中, 靶材能夠提供均勻的材料源,確保在基底上形成的薄膜具有優異的質量和一致性。選擇 作爲靶材,主要是基於它的獨特化學穩定性和優良的物理特性,這些特性使得它在製造過程中能夠承受高能量的沉積環境,同時保持其化學純度和結構完整性。

5 靶材在多個行業中具有廣泛的應用優勢。在光學顯示技術領域, 靶材用於製造透明導電膜,提高液晶顯示器(LCD)和有機發光二極管(OLED)螢幕的清晰度和響應速度。在LED照明技術中, 靶材因其優異的光學特性得到廣泛應用,特別是在提高光效和色溫調節方面。在光伏材料領域, 靶材作爲半導體材料使用,增強了太陽能電池的光吸收能力和轉換效率。此外, 靶材還被用於製造氣體感測器和生物感測器,在環境監測和醫療健康領域顯示出潛力。

6在製造過程中, 靶材需要經過多個關鍵步驟,包括原料的預處理、粉末的合成、粉末成型、燒結以及退火處理等。這些步驟對於獲得高質量、高性能的靶材至關重要。特別是燒結過程,需要在高溫下進行,以增強靶材的結構密實度和機械強度。同時,燒結溫度和時間的精確控制對 終產品的質量至關重要。

總的來說, 靶材以其高純度、高化學穩定性、優良的物理特性以及廣泛的應用優勢,在磁控濺射技術中發揮着重要作用。隨着科學技術的不斷進步和工業應用的不斷拓展, 靶材的應用前景廣闊。

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