ITO 靶材

  ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜,通常有兩個性能指標:電阻率和透光率。

    在氧化物導電膜中，以摻Sn的In氧化物(ITO)膜的透過率 和導電性能 ,而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形.其中透光率達90%以上,ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來控制,通常SnO2:In2O3=1:多用於觸控面板、觸摸屏、冷光片等。

    銦錫金屬氧化物具有很好的導電性和透明性，還可以切斷對人體有害的電子輻射，紫外線及遠紅外線。因此，噴塗在玻璃，塑料及電子顯示屏上後，在增強導電性和透明性的同時切斷對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。

電子產品生產商傳統上會使用平面濺射靶材來製造平板顯示屏，但僅有30%的 ITO在生產過程中可被利用，剩餘的靶材則由回收處理。旋轉濺射靶材的使用率則達到了85%，意味着產品一經廣泛應用，可回收的材料將大大減少。

所謂ITO(氧化銦錫)是代表性透明導電薄膜材料的一種,爲現在製造FPD (平面面板顯示器) 的必要材料之一。由於是兼具透明及導電之一種原料, 在FPD 的運用上, LCD, PDP, 有機EL,TOUCH PANEL中被廣泛使用。還有,部分薄膜系太陽電池,LED中也被使用。一般的ITO用濺鍍法,以薄膜形式來被使用。膜的基本特性是,可視透光率90% 以上, 阻抗率0.2mΩ-cm, 耐久性也很優異,FPD用透明導電薄膜有90% 以上是使用ITO。