WC碳化鎢（Tungsten Carbide）靶材

碳化鎢（Tungsten Carbide），化學式WC，是一種高性能的磁控濺射靶材材料，廣泛應用於現代科技和工業生產的多個領域。以下是對碳化鎢靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產碳化物靶材材料如下：

CARBIDES 碳化物
Aluminum Carbide (Al4C3)	Tantalum Carbide (TaC)
Boron Carbide (B4C)	Titanium Carbide (TiC)
Chromium Carbide (Cr3C2)	Tungsten-Cobalt Carbide (WC-Co)
Hafnium Carbide (HfC)	Tungsten Carbide (WC)
Molybdenum Carbide (Mo2C)	Vanadium Carbide (VC)
Niobium Carbide (NbC)	Zirconium Carbide (ZrC)
Silicon Carbide (SiC)

1、碳化鎢靶材是一種黑色六方晶體，具有金屬光澤，其物理性出色。首先，碳化鎢的密度高達15.63g/cm3，遠高於常見的金屬如鋁（2.70g/cm3）或鈦（4.51g/cm3）。這種高密度特性使得碳化鎢靶材在濺射過程中表現出較高的原子結合能，雖然濺射產率相對較低，但濺射出的粒子能量高，有利於形成高質量的薄膜。其次，碳化鎢的熔點極高，達到2870℃，沸點 是高達6000℃，這使得碳化鎢靶材能夠在高溫環境下保持穩定，不易熔化或變形。此外，碳化鎢還具有良好的硬度和耐磨性，其顯微硬度可達到17300MPa，這使得碳化鎢靶材在刻蝕和薄膜沉積過程中能夠提供精確的控制，減少不必要的材料損失。

2、在化學性能方面，碳化鎢不溶於水、 和 ，但能溶於碳化鈦等碳化物中，以及 - 的混合酸中。碳化鎢還具有一定的導電性和導熱性，電阻率爲19.2×10-6/K，這些特性使得碳化鎢靶材在電子器件的製造中具有廣泛的應用前景。

3、碳化鎢靶材的純度對其性能和應用效果至關重要。高純度的碳化鎢靶材能夠減少雜質對薄膜性能的影響，提高薄膜的質量和穩定性。一般來說，碳化鎢靶材的純度可達到99.9%以上，確保其在濺射過程中能夠提供高質量的薄膜。

4、碳化鎢靶材在半導體製造業中具有顯著的應用優勢。在光刻工藝中，碳化鎢靶材憑藉其高密度、高硬度和低化學反應性，能夠提供精確的刻蝕控制，減少不必要的材料損失，確保電路圖案的精細度和完整性。同時，碳化鎢的高熔點和優異的抗腐蝕性使其在刻蝕過程中能夠承受極端的等離子環境，減少材料的降解和污染，提高良品率和降低製造成本。

5、在薄膜沉積技術中，碳化鎢靶材在物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）工藝中均發揮着重要作用。在PVD工藝中，碳化鎢靶材被高能量離子轟擊，蒸發並沉積在晶圓表面，形成緻密的碳化鎢薄膜。這種薄膜具有極高的硬度和耐磨性，能夠有效提升半導體器件的機械強度和耐用性。在CVD工藝中，碳化鎢靶材通過化學反應在高溫環境下沉積在晶圓表面，形成均勻的碳化鎢薄膜，確保器件的每一個角落都得到充分保護。

6、除了半導體製造業，碳化鎢靶材還在機械加工和工具製造領域得到廣泛應用。由於其硬度和耐磨性，碳化鎢靶材成爲製造高性能切削工具和硬質合金刀具的理想選擇。碳化鎢刀具能夠在高強度切削過程中保持刀刃的鋒利度，有效應對高硬度工件材料的加工需求，同時延長刀具的使用壽命，提高生產效率。

7、在航空航太與國防工業中，碳化鎢靶材也發揮着重要作用。飛機零部件經常暴露在高溫、高壓和腐蝕性環境中，碳化鎢靶材提供的塗層能夠有效保護關鍵部件，減少磨損，延長使用壽命。在軍事防護領域，碳化鎢靶材因其極高的硬度和密度，成爲製造防護裝甲的優選材料，能夠有效抵禦高動能 和破片的襲擊。

綜上所述，碳化鎢靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，具有出色的物理性能和化學穩定性，在半導體製造業、機械加工和工具製造以及航空航太與國防工業等多個領域具有廣泛的應用前景和顯著的優勢。隨着技術的不斷進步和研究的深入，碳化鎢靶材的應用範圍還將進一步擴大，爲現代科技的發展提供有力的支持。

W鎢（Tungsten）靶材

W鎢（Tungsten）靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在現代材料科學與技術領域具有舉足輕重的地位。鎢作爲一種稀有金屬，不僅因其高熔點、高密度、高硬度等優異的物理性能而備受矚目，因其廣泛的應用領域而成爲衆多高科技產業不可或缺的關鍵材料。以下是對W鎢靶材的基本介紹、物理性能以及行業應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒等靶材材料如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

基本介紹

W鎢靶材是一種以鎢爲主要成分的材料，鎢的元素符號爲W，原子序數爲74，相對原子質量爲183.85。鎢是一種銀白色金屬，外形似鋼，具有極高的熔點（3410±20℃），是所有金屬中熔點 的。這一特性使得鎢靶材能夠在極端高溫環境下保持穩定性，從而適用於需要承受高溫的場合。此外，鎢還具有優異的導電性、熱導率和化學穩定性，使得W鎢靶材在磁控濺射過程中能夠形成高質量、高性能的鍍膜。

物理性能

1、純度：W鎢靶材的純度通常可達99.95%以上，高純度靶材能夠確保鍍膜的質量和性能。高純度的W鎢靶材減少了雜質和缺陷，提高了鍍膜的緻密度和均勻性，從而增強了鍍膜的光學、電學和機械性能。

2、密度：鎢的密度約爲19.35 g/cm3，這一密度值使得W鎢靶材在磁控濺射過程中能夠有效地傳遞能量，形成厚、緻密的鍍膜層。同時，高密度的W鎢靶材還具有優異的抗磨損和抗腐蝕性能，延長了鍍膜的使用壽命。

3、熔點：鎢的熔點高達3410±20℃，是所有金屬中 的。這一高熔點特性使得W鎢靶材能夠在極高溫度下工作而不融化或變形，特別適合用於高溫應用環境，如航空航太、核反應爐等領域。

4、化學成份：W鎢靶材主要由鎢元素組成，其化學性質穩定，不易與其他元素發生化學反應。這一特性使得W鎢靶材在鍍膜過程中能夠保持穩定的化學組成，從而確保鍍膜的質量和性能。

行業應用優勢

1、半導體製造：在半導體製造中，W鎢靶材被廣泛應用於製作微型電路和晶片。其高純度和電學性質保證了晶片的高效能和穩定性。同時，W鎢靶材的優異導電性使得其在半導體器件的製造過程中具有重要的作用。

2、航空航太：由於W鎢靶材具有極高的熔點和優異的熱穩定性，使得其在航空航太領域中被用於製造能夠承受極端高溫的部件。這些部件在高速飛行和高溫環境下能夠保持穩定的性能，從而確保 的 和可靠性。

3、醫療器械：W鎢靶材在醫療器械製造中也具有廣泛的應用。其高密度和高硬度使得W鎢靶材能夠用於製造高精度、高穩定性的醫療器械部件，如X射線管的陽極材料等。這些部件在醫療器械中發揮着重要的作用，提高了醫療設備的性能和安全性。

4、真空鍍膜：W鎢靶材還可以作爲蒸發源，用於製造各種薄膜材料。在真空鍍膜過程中，W鎢靶材能夠形成高質量、高性能的鍍膜層，廣泛應用於光學、電子、化工等領域。

5、其他領域：除了上述領域外，W鎢靶材還可以用於製造高溫爐具、電光源、化工設備、冶金機械等。其廣泛的應用領域和獨特的性能使得W鎢靶材成爲衆多高科技產業不可或缺的關鍵材料。

綜上所述，W鎢靶材以其獨特的物理性能和廣泛的應用領域，在材料科學與技術領域發揮着重要作用。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，W鎢靶材的需求量也將會不斷增加。未來，W鎢靶材將繼續在高科技產業中發揮重要作用，爲人類的科技進步和社會發展做出大的貢獻。