TiN氮化鈦（Titanium Nitride）靶材

TiN氮化鈦（Titanium Nitride）靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在材料科學與技術領域發揮着舉足輕重的作用。其獨特的物理性能和廣泛的應用領域使其成爲衆多高科技產業不可或缺的關鍵材料。以下是對TiN氮化鈦靶材的基本介紹、物理性能以及行業應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產氮化物靶材材料如下：

Nitrides 氮化物
Aluminum Nitride, AlN	Titanium Nitride, TiN
Boron Nitride, BN	Vanadium Nitride, VN
Niobium Nitride, NbN	Zirconium Nitride, ZrN
Silicon Nitride, Si(3)N(4)	Si(3)N(4)/TiN
Tantalum Nitride, TaN
Nitrides 氮化物

基本介紹

TiN氮化鈦靶材是一種由鈦（Ti）和氮（N）元素組成的無機化合物，化學式爲TiN。這種材料通常以灰色或金黃色的粉末、顆粒或塊狀形式存在，具有高硬度、高熔點、優異的導電性和抗腐蝕性。TiN氮化鈦靶材的製備過程涉及多種方法，包括粉末冶金法、化學氣相沉積法（CVD）和物理氣相沉積法（PVD）等，其中磁控濺射技術因其均勻和可控的鍍膜質量而被廣泛應用。

物理性能

1、純度：TiN氮化鈦靶材的純度通常可達99.99%以上，高純度靶材能夠確保鍍膜的質量和性能。高純度的TiN靶材減少了雜質和缺陷，提高了鍍膜的緻密度和均勻性。

2、密度：TiN氮化鈦的密度約爲5.22-5.44 g/cm3，這一密度值使其具有優異的力學性能和耐磨性。在磁控濺射過程中，高密度的靶材能夠有效地傳遞能量，形成厚、緻密的鍍膜層。

3、熔點：TiN氮化鈦的熔點高達2930-2950℃，這一高熔點特性使其在高溫環境下仍能保持其物理和化學性質的穩定性。這一特性使得TiN靶材在需要承受高溫的場閤中具有顯著優勢。

4、硬度：TiN氮化鈦的硬度極高，莫氏硬度可達8-9，接近於金剛石的硬度。這種高硬度賦予了TiN靶材出色的耐磨性和耐劃痕性，使其成爲理想的表面塗層材料。

5、化學成份：TiN氮化鈦由鈦和氮元素組成，其中鈦和氮原子通過離子鍵和共價鍵緊密結合在一起，形成了穩定的晶體結構。這種結構使得TiN靶材具有優異的化學穩定性和抗腐蝕性。

行業應用優勢

1、電子行業：TiN氮化鈦靶材在電子行業中具有廣泛的應用，如用於製造電晶體、磁頭、積體電路等電子器件。其優異的導電性和耐磨性使得TiN成爲提高電子器件性能和可靠性的關鍵材料。

2、能源領域：在能源領域，TiN氮化鈦靶材作爲電池材料的添加劑，能夠顯著提高電池的性能和迴圈壽命。其高穩定性和良好的導電性使得TiN成爲電池材料中不可或缺的一部分。

3、表面塗層：TiN氮化鈦靶材在表面塗層領域具有廣泛的應用，如用於製備高硬度、高耐磨性的表面塗層，以保護機械零件和工具免受磨損和腐蝕。這種塗層能夠顯著提高零件和工具的使用壽命和性能。

4、光學領域：TiN氮化鈦靶材具有優異的光學性能，可作爲光學塗層材料，用於反射鏡、太陽能電池等光學器件。其高反射率和低吸收率使得TiN成爲提高光學器件性能和效率的關鍵材料。

5、醫療應用：在醫療領域，TiN氮化鈦靶材具有 性能，可用於製備 材料和 塗層。其優異的生物相容性和耐腐蝕性使得TiN成爲醫療領域中的理想材料，用於製造手術器械、植入物等醫療器械。

綜上所述，TiN氮化鈦靶材以其獨特的物理性能和廣泛的應用領域，在材料科學與技術領域發揮着重要作用。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，TiN氮化鈦靶材的應用前景廣闊。

TiO 二氧化鈦（Titanium Dioxide, TiO ）靶材

二氧化鈦（Titanium Dioxide, TiO ）靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，在現代材料科學與技術領域佔據着舉足輕重的地位。其獨特的物理性能、廣泛的化學穩定性以及多樣的應用領域，使得TiO 靶材成爲衆多高科技產業不可或缺的關鍵材料。以下是對TiO 二氧化鈦靶材的基本介紹、物理性能以及行業應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產氧化物靶材材料如下：

OXIDES 氧化物
Aluminum Oxide (Al2O3)	Magnesium Oxide (MgO)
Antimony Oxide (Sb2O3)	Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
Barium Titanate (BaTiO3)	Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
Bismuth Oxide (Bi2O3)	Molybdenum Oxide (MoO3)
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)	Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
Cerium Oxide (CeO2)	Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)	Niobium Pentoxide (Nb2O5)
Chromium Oxide (Cr2O3)	Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
Chromium Oxide (Eu doped)	Rare Earth Oxides (La2O3)
Gallium Oxide (Ga2O3)	Silicon Dioxide (SiO2)
Germanium Oxide (GeO3)	Silicon Monoxide (SiO)
Hafnium Oxide (HfO2)	Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
Indium Oxide (In2O3)	Tin Oxide (SnO2)
Indium-Tin Oxide (ITO)	Titanium Dioxide (TiO2)
Iron Oxide (Fe2O3)	Tungsten Oxide (WO3)
Lanthanum Oxide(La2O3)	Yttrium Oxide (Y2O3)
Lead Titanate(PbTiO3)	Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)
Lead Zirconate (ZrPbO3)	Zinc Oxide (ZnO)
Lithium Niobate (LiNbO3)	Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)	Zirconium Oxide (ZrO2)

 

基本介紹

TiO 二氧化鈦靶材，是一種由鈦（Ti）和氧（O）元素組成的無機化合物，化學式爲TiO 。這種材料通常以白色粉末、顆粒或塊狀形式存在，具有高硬度、高熔點、優異的化學穩定性和抗腐蝕性。TiO 靶材的製備過程涉及多種方法，包括粉末冶金法、溶膠-凝膠法、化學氣相沉積法（CVD）和物理氣相沉積法（PVD）等，其中磁控濺射技術因其均勻和可控的鍍膜質量而被廣泛應用。

物理性能

1、純度：TiO 二氧化鈦靶材的純度通常可達99.99%以上，高純度靶材能夠確保鍍膜的質量和性能。高純度的TiO 靶材減少了雜質和缺陷，提高了鍍膜的緻密度和均勻性，從而增強了鍍膜的光學、電學和機械性能。

2、密度：TiO 二氧化鈦的密度約爲4.0-4.2 g/cm3（具體值取決於其結晶形態，如銳鈦礦型或金紅石型）。這一密度值使得TiO 靶材在磁控濺射過程中能夠有效地傳遞能量，形成厚、緻密的鍍膜層。

3、熔點：TiO 二氧化鈦的熔點較高，通常在1800-1875℃之間（有資料介紹在空氣中的熔點爲1830±15℃，而在富氧中的熔點爲1879±15℃）。這一高熔點特性使得TiO 靶材在高溫環境下仍能保持其物理和化學性質的穩定性，從而適用於需要承受高溫的場合。

4、化學成份：TiO 二氧化鈦由鈦和氧元素組成，其中鈦和氧原子通過離子鍵緊密結合在一起，形成了穩定的晶體結構。這種結構使得TiO 靶材具有優異的化學穩定性和抗腐蝕性，能夠抵抗多種酸、鹼和有機溶劑的侵蝕。

行業應用優勢

1、光學領域：TiO 二氧化鈦靶材具有高折射率（約爲2.71），使得其在光學領域具有廣泛的應用。它可以用於製造高折射率的光學薄膜，如抗反射塗層、增透膜和干涉濾光片等。此外，TiO 靶材還可以用於製備太陽能電池的透明導電膜，提高太陽能電池的光電轉換效率。

2、電子行業：在電子行業中，TiO 二氧化鈦靶材被廣泛應用於製造電容器、電阻器、積體電路等電子元件。其優異的導電性和化學穩定性使得TiO 成爲提高電子元件性能和可靠性的關鍵材料。

3、塗料與塑料行業：TiO 靶材在塗料和塑料行業中也發揮着重要作用。它可以作爲白色顏料和光穩定劑，提高塗料和塑料的白度、亮度和耐候性。此外，TiO 靶材還可以用於製備 塗料和防紫外線塗料，保護塗層下的基材免受微生物和紫外線的侵害。

4、環保領域：在環保領域，TiO 二氧化鈦靶材因其優異的光催化性能而被廣泛應用於空氣淨化、水處理等方面。它可以催化分解空氣中的有害氣體和有機污染物，從而淨化空氣；同時，它還可以催化降解水中的有機物和重金屬離子，提高水質。

5、其他領域：除了上述領域外，TiO 靶材還可以用於製備催化劑載體、感測器材料、生物 材料等。其廣泛的應用領域和獨特的性能使得TiO 靶材成爲衆多高科技產業不可或缺的關鍵材料。

綜上所述，TiO 二氧化鈦靶材以其獨特的物理性能、廣泛的化學穩定性和多樣的應用領域，在材料科學與技術領域發揮着重要作用。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，TiO 靶材的應用前景廣闊。