科研實驗材料 高純氧化鈮Nb2O5靶材 磁控濺射 PVD真空鍍膜靶材 真空熔練合金靶  純度99.999%  尺寸可定製 背板綁定

Niobium Pentoxide（Nb O ）氧化鈮靶材，是一種精密的磁控濺射靶材

一、Niobium Pentoxide（Nb2O5），即氧化鈮，作爲一種高性能的濺射靶材材料，在多個高科技領域中展現出了其獨特的優勢和廣泛的應用前景。以下是對氧化鈮靶材的特性（純度、密度、熔點）及其在行業中應用優勢的詳細闡述。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產氧化物材料如下：

OXIDES 氧化物
Aluminum Oxide (Al2O3)	Magnesium Oxide (MgO)
Antimony Oxide (Sb2O3)	Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
Barium Titanate (BaTiO3)	Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
Bismuth Oxide (Bi2O3)	Molybdenum Oxide (MoO3)
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)	Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
Cerium Oxide (CeO2)	Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)	Niobium Pentoxide (Nb2O5)
Chromium Oxide (Cr2O3)	Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
Chromium Oxide (Eu doped)	Rare Earth Oxides (La2O3)
Gallium Oxide (Ga2O3)	Silicon Dioxide (SiO2)
Germanium Oxide (GeO3)	Silicon Monoxide (SiO)
Hafnium Oxide (HfO2)	Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
Indium Oxide (In2O3)	Tin Oxide (SnO2)
Indium-Tin Oxide (ITO)	Titanium Dioxide (TiO2)

 

 

二、材料特性

1、在純度方面，氧化鈮靶材通常具有高純度，一般達到99.5%以上，部分產品的純度甚至能超過99.99%。高純度意味着材料中的雜質含量極低，這對於保證濺射鍍膜的質量和性能至關重要。高純度的氧化鈮靶材在濺射過程中能夠釋放出純淨的鈮原子，從而在基片上形成質量高、性能穩定的薄膜。

2、密度方面，氧化鈮靶材的密度較高，通常在4.47g/mL左右。高密度使得靶材在濺射過程中具有好的穩定性和耐用性，能夠承受高強度的濺射過程而不易變形或破裂。同時，高密度還有助於提高濺射效率，使得更多的鈮原子能夠被有效地濺射到基片上，形成均勻、緻密的薄膜。

3、熔點方面，氧化鈮靶材的熔點非常高，達到了約1512°C（也有資料稱爲1460°C至1520°C之間）。這意味着它可以在多數工業加工條件下保持固態，適用於高溫工藝。高熔點特性使得氧化鈮靶材在濺射鍍膜過程中能夠保持穩定的性能，不易因高溫而發生熔化或變形，從而保證了鍍膜的質量和穩定性。

三、行業應用：

在行業中，氧化鈮靶材的應用優勢主要體現在以下幾個方面：

1、半導體技術：氧化鈮因其優異的電絕緣性和高介電常數，被廣泛應用於製造高性能的絕緣層和柵介質材料。隨着積體電路向着高密度、小尺寸發展，氧化鈮靶材在微電子和納米技術中的應用日益增加，對推動下一代半導體技術的發展起着關鍵作用。

2、光電子技術：利用氧化鈮的高折射率和良好的光學透明性，製備的薄膜在光波導、抗反射塗層、光電探測器等方面得到了廣泛應用。氧化鈮靶材在光電子領域的應用促進了光學器件的小型化和集成化，爲高速通信和高精度光電探測技術的發展提供了重要支撐。

3、塗層技術：氧化鈮靶材因其高溫穩定性和化學惰性，被用於製備耐高溫、抗腐蝕的塗層，廣泛應用於航空航太、能源等領域。此外，其優秀的光學性能也使其成爲製作光學鏡片和窗口材料的理想選擇。

綜上所述，氧化鈮靶材以其高純度、高密度、高熔點等特性，在半導體技術、光電子技術、塗層技術等多個高科技領域中展現出了廣泛的應用前景和獨特的優勢。隨着科技的不斷發展，氧化鈮靶材的應用範圍還將進一步拓展，爲科技進步和產業發展做出大的貢獻。