鋯（Zr），化學元素符號爲Zirconium

一、鋯（Zr），化學元素符號爲Zirconium，是一種高性能的磁控濺射靶材材料，廣泛應用於微電子、半導體製造、光學鍍膜、航空航太以及核能等多個高科技領域。以下是對鋯靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

二、鋯靶材基本介紹

鋯靶材主要由鋯（Zr）元素組成，是一種在薄膜沉積過程中廣泛應用的材料。鋯靶材的製備過程通常涉及高純度的鋯金屬，通過熔鍊、緻密化、切割、磨削和拋光等一系列複雜工藝， 終加工成所需尺寸和形狀的靶材。這些靶材在物理氣相沉積（PVD）和濺射沉積等過程中，能夠產生高純度的鋯蒸氣，從而在基材上形成均勻、高質量的薄膜。

三、物理性能

1、純度：鋯靶材的純度是影響其性能的關鍵因素之一。高質量的鋯靶材通常要求純度在99.9%以上，部分應用甚至要求達到99.95%。高純度確保了靶材在沉積過程中不會產生雜質，從而保證了薄膜的純度和質量。

2、密度：鋯的密度爲6.49-6.51g/cm3，而理想的鋯靶材應接近這一理論密度。高密度靶材具有長的使用壽命和好的熱傳導性能，能夠減少孔隙和缺陷，提高薄膜的均勻性和質量。

3、熔點：鋯的熔點高達1852-1855℃，這使得鋯靶材在高溫環境中不易熔化或變形，能夠確保薄膜沉積等過程的順利進行。

4、化學成份：鋯是一種有光澤的灰白色強過渡金屬，化學性質穩定，不易與水反應，但可溶於 和 。鋯容易吸收 、氮和氧氣，在高溫下可與非金屬元素和許多金屬元素反應，生成固體溶液化合物。

四、應用優勢

1、微電子和半導體製造：在微電子和半導體製造中，鋯靶材常用於濺射和化學氣相沉積（CVD）技術。由於其高純度和良好的薄膜均勻性，鋯靶材成爲製備高質量薄膜的理想材料。鋯薄膜可以作爲電極材料、互連線、柵極電極以及保護層，應用於電晶體、積體電路和其他半導體器件中，提供穩定的電性能和延長電路壽命。

2、光學鍍膜：鋯靶材在光學鍍膜領域也有廣泛應用。鋯薄膜鍍在光學透鏡和反射鏡表面，可以顯著提高透光率和反射率，增加光學器件的耐用性和環境適應性。這些性能的提升對於提高光學器件的性能和使用壽命至關重要。

3、航空航太：鋯靶材在航空航太領域主要用於製造高性能合金。這些合金具有優異的機械性能和耐腐蝕性，可用于飛機的結構材料，如機身和翼樑，提供高強度和輕質特性。鋯合金在高溫環境下仍能保持較高的強度和硬度，適合製造高溫結構件。

4、核能：鋯靶材在核能行業中的應用也至關重要。鋯在強輻射環境中表現出色的抗輻射性能，使其成爲核反應爐中燃料包殼材料和控制棒材料的理想選擇。鋯合金燃料包殼能夠保護核燃料芯免受冷卻劑和腐蝕劑的侵蝕，確保反應堆的 運行。

5、醫療設備：鋯靶材因其耐輻射性和生物相容性，在放射性醫療設備和醫療器械中也有廣泛應用。例如，鋯靶材用於X射線管的靶材部分，提供穩定的輻射源和高質量的成像效果；同時，鋯合金也被用於製造人工關節和骨固定器等醫療器械，提供優異的耐磨性和生物相容性。

綜上所述，鋯靶材作爲一種高性能的磁控濺射靶材材料，具有高純度、高密度、高熔點等優異的物理性能，在微電子、半導體製造、光學鍍膜、航空航太以及核能等多個高科技領域具有廣泛的應用優勢和前景。隨着科技的不斷發展，鋯靶材的應用領域還將不斷拓展和深化，爲科技進步和社會發展做出 的貢獻。