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March AP-1000等離子清洗機上海

一、功能簡介：

在微電子加工過程中，特別是在晶片貼裝和絲線鍵合的過程中，需要對表面輕微有機污染或氧化物進行清洗，在這種場合下，需要用等離子清洗的方法進行清洗。美國MARCH 公司的等離子清洗設備在以下器件的製造過程中能起到很好地清洗作用：光電器件、微波器件、混合電路、MEMS器件、RF模組、功率器件、感測器、半導體器件、LED、分立元器件、納米器件、聲表器件。

 

 

March AP-1000等離子清洗系統，是專門設計適應24小時生產的嚴格要求的情況。此系統提供統一的等離子體，具有優良的可靠性、安全性及操作簡單等優點。

AP-1000平臺是完全獨立的，因此要求 的層空間。泵、處理腔體、電子控制和13.56MHz電源供應都被安裝在一個單一的外殼內。前面開門使得存取組件都很便利。泵安裝在便於拆卸的滾筒上。

 

等離子室由帶有鋁夾具的11-gauge不鏽鋼構成的，具有耐久性。

 

 

提高生產率的AP-1000 HTP選項

 

帶有HTP（高吞吐量）架選項的AP-1000等離子系統結合了可靠性和生產品質，證明March 的HTP架的優勢。AP-1000 HTP優化在RF激勵源產生的離子的應用，使在減少過程時間的時候，提高處理的一致性。

AP-1000 HTP允許選擇一系列工藝氣體，例如氬氣、 和氦氣等。它裝備4個質量流量控制器以達到工藝氣體控制。

帶有槽的M/G制具垂直安裝在處理腔體中。出色的是，每塊M/G制具可 支撐20個框架。處理腔體 可裝12個M/G制具，這有M/G制具的尺寸決定。

 

二、特徵與優勢

觸摸屏的PLC控制，提供了形象的圖形界面和實時過程顯示；

實時顯示工藝過程，資料時時可調, 可存64個程式；

四種清洗模式：強洗、弱洗、無電子清洗、取膠；

可用來清洗敏感，易粹器件；

靈活的支架結構允許處理多種部分，在水準或豎直模式下；

13.56MHz的電源具有自動阻抗匹配功能，因此具有出色的過程重複性；

控制軟件系統爲統計過程控制產生過程和產品的資料；

雙重真空吸塵，強力清洗，鋁製清洗室，免污染。

 

 

三、技術說明書

外殼：塗層鋁，泵、電子控制、處理腔體、發生器全部安裝在內

腳支架：697W×1513H×1127D（mm）

腔體：結構：不鏽鋼11AWG，鋁支

腔體尺寸：457W×457H×610D（mm）

可調整架 數量：14

電源架工作規格：349W×425D（mm）

接地架工作規格：384W×425D（mm）

RF功率：600W，固態自動調整（可升級爲1000W）

氣體控制：4個質量流量控制器

控制器：帶觸摸屏的PLC控制

泵系統：1415LPM（50CFM）帶有油霧過濾器；

設備需求：電源200～240VAC，25A

 

四、選項：

2個附加的質量流量控制器；

泵系統：下面帶風扇的封裝或乾燥泵

油過濾系統

爲腐蝕性氣體除油霧系統

發生器

垂直升降的門

接觸角測角器（110或220V）

RF發生器提升到1000W

等離子軟體，用於遠程資料收集與控制

AP-1000 HTP制具

M/G制具

最大尺寸

6

105W×278H×216L（mm）

8

70W×143H×205L（mm）

12

105W×139H×216L（mm）