北京維意真空技術應用有限責任公司

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經營模式: 生產製造

所在地區: 北京市 

認證資訊: 身份認證

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北京維意真空技術應用有限責任公司是ALD原子層沉積鍍膜設備,PECVD設備,磁控濺射鍍膜機的優良生產製造廠家,竭誠爲您提供全新的K型熱電偶真空饋通法蘭,鈣鈦礦熱蒸發鍍膜機,一體式光纖真空饋通法蘭等系列產品。

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首頁 > 產品列表 > 加熱設備 > 小型快速退火爐

小型快速退火爐

圖片審覈中 小型快速退火爐
小型快速退火爐 小型快速退火爐 小型快速退火爐
小型快速退火爐

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價格 面議
起批量 ≥1臺
供貨總量 100臺
產地 北京市
發貨期 未填寫
數量

於磊 先生
  • 156****1559

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  • 於磊  先生  (經理)
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  • 傳真:010-67947887
  • 地址: 北京市   大興區 中國北京市大興區舊橋路25號院
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產品詳情

“小型快速退火爐”參數說明

種類: 感應加熱設備

“小型快速退火爐”詳細介紹

小型快速退火爐基本介紹

此款小型快速退火爐是集成儀 巧妙的結構設計和獨特的加熱方式與一體,使得體積和功率都大幅減小的同時,升降溫速率卻比傳統退火爐提升了數倍之多。它既可以通氣氛又可以抽真空,滿足了很多用戶對小樣品快速退火的工藝要求。

 

應用範圍:

Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入後退火

Ø 石墨烯等氣象沉積,碳納米管等外延生長

Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

Ø 矽化 (Silicidation);

Ø 擴散 (Diffusion);

Ø 離子注入後退火 (Implant Annealing);

Ø 電極合金化 (Contact Alloying);

Ø 晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);




主要特點:

Ø 極速升溫20℃/S,極速降溫20℃/S;

Ø 控溫穩定,恆溫精度≤1℃

Ø 體積小巧,使用功率只有1kw;

Ø  光線反射效率,無需爐膛保溫;



技術參數:

  產品名稱

  mini快速退火爐

  產品型號

  RTP1000S

  極限溫度

  1000

額定溫度

1000

控溫精度

±1℃

快升溫速率

20℃/S(900-1000℃升溫3-5℃/S)

快降溫速率

隨爐冷卻75℃/min  物料臺拉出降溫800℃/min

控制方式

智慧PID

加熱方式

短波紅外線加熱

加熱腔體結構

石英管

樣品冷卻

自然冷卻或通入冷卻氣體

冷卻氣體調節

浮子流量計(100~1000ml/min)(選配)

超溫保護

溫度出現過高時切斷主迴路

  恆溫區尺寸

  35mm

載料體尺寸

30*25mm

感測器類型

K

  真空系統

  1L/S 雙級聯真空系統 CHY-4C(選配)

  整機真空度

  3Pa(選配CHY-4C真空泵)

  抽氣埠尺寸

  KF16

  供氣口尺寸

  1/4英寸雙卡套

  額定功率

  1.5kw

  額定電壓

  AC220V,50Hz

  重量

  15kg

  配件

  坩堝鉗1把,說明書1本。

外形尺寸

  610x400x410(長*寬*高)


小型快速退火爐性能特點
 
小型快速退火爐技術參數
 
小型快速退火爐使用說明
 
小型快速退火爐採購須知
 

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