EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機

真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、 換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養；

真空系統：國產分子泵作爲主抽泵，真空極限優於5.0?10-5Pa（經烘烤除氣後）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作爲主抽泵，真空極限優於3.0?10-6Pa（經烘烤除氣後）；

真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；

蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得複合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；

蒸發電源：真空專業蒸發電源，恆流/恆功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啓動和停止的自動控制功能；

基片臺： 120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定製一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調；

基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距 350mm；

濺射電源：直流脈衝濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；

膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；

可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。