北京維意真空技術應用有限責任公司

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經營模式: 生產製造

所在地區: 北京市 

認證資訊: 身份認證

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北京維意真空技術應用有限責任公司是ALD原子層沉積鍍膜設備,PECVD設備,磁控濺射鍍膜機的優良生產製造廠家,竭誠爲您提供全新的K型熱電偶真空饋通法蘭,鈣鈦礦熱蒸發鍍膜機,一體式光纖真空饋通法蘭等系列產品。

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多功能快速退火爐-維意真空

圖片審覈中 多功能快速退火爐-維意真空
多功能快速退火爐-維意真空

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價格 面議
起批量 ≥1臺
供貨總量 100臺
產地 北京市
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數量

於磊 先生
  • 156****1559

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  • 於磊  先生  (經理)
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  • 傳真:010-67947887
  • 地址: 北京市   大興區 中國北京市大興區舊橋路25號院
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產品詳情

“多功能快速退火爐-維意真空”參數說明

加工定製: 電壓: 380V 50HZ
功率: 1100

“多功能快速退火爐-維意真空”詳細介紹

多功能快速退火爐-維意真空基本介紹

快速熱處理退火爐簡稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),由我公司借鑑了國際先進製造工藝,在管式爐的基礎上自主研發而成。這款不但擁有很快的升溫速率100℃/S,而且降溫速率也有了質的飛躍,降溫速率100℃/S。


應用領域

Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入後退火

Ø 石墨烯等氣象沉積,碳納米管等外延生長

Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

Ø 矽化 (Silicidation);

Ø 擴散 (Diffusion);

Ø 離子注入後退火 (Implant Annealing);

Ø 電極合金化 (Contact Alloying);

Ø 晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);

    
主要特點

Ø 極速升溫100℃/S,極速降溫100℃/S;

Ø 雙層爐管結構,氣氛與樣品接觸 均勻;

Ø 樣品實際溫度資料可通過手機APP導出excel表格(選配);

技術參數:

 

產品名稱

RTP快速升溫爐

產品型號

RTP1100

額定溫度

1100

溫場均勻性

±2℃

爐膛升溫速率

≥100℃/S

快降溫速率

≥100℃/S

操控系統

智慧AIO操作系統

操作界面

7英寸觸摸屏

加熱方式

短波紅外線加熱

加熱腔體結構

雙層石英管

外管直徑

100mm

內管直徑

80mm

氣體保護方式

外管進氣,內管出氣

超溫保護

溫度出現過高時切斷主迴路

式樣有效空間

70*100mm

真空系統

8L/S雙級聯真空系統(選配)

整機真空度

3Pa

真空啓動方式

根據程式設置自動啓停

抽氣埠尺寸

KF16

供氣口尺寸

1/4英寸雙卡套

法蘭冷卻方式

水冷(短時間無需水冷)(可選配水冷機)

真空顯示

真空壓力錶(可選配數顯真空計)

上位機操控

基於安卓系統APP(選配)

資料導出方式

APP導出Excel表格(選配)

額定功率

12kw

外形尺寸

950*500*560mm

重量

50kg

配件

管堵2支,法蘭水冷套1支,耐溫手套1雙,坩堝鉗1把,說明書1本。


多功能快速退火爐-維意真空性能特點
 
多功能快速退火爐-維意真空技術參數
 
多功能快速退火爐-維意真空使用說明
 
多功能快速退火爐-維意真空採購須知
 

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