實現實時監控的高功率採樣工業 射焦點監控系統（ILMS）

美國Dataray的工業 射焦點監控系統（ILMS）將重新成像的LensPlate2組件和高功率保偏採樣器（PPBS）相結合，以使用WinCamD-LCM光斑分析儀並通過附帶的軟體像素倍增因子（PMF）來實現高功率工業 射器的焦點監控，該系統主要通過在放大束腰的同時對其能量的一部分進行採樣分析，該系統允許對小至幾個微米的光纖光束點進行二維測量實現高功率聚焦光斑檢測。

海納光學所代理的美國Dataray爲用戶提供優質的 射分析診斷方案，在部分科研設計或生產應用中，不可避免的會遇到兩個問題：小尺寸光束以及高功率。

焦點聚焦 射輪廓分析儀不同於使用刀口式原理或狹縫式原理的光斑分析儀，以CMOS作爲主要探測元件的光斑分析儀可以實時採集光束截面的真實狀態，通過軟體中的像素倍增因子（PMF）可以實現突破相機 光束測量尺寸的極限，不同的配置方案可以 地滿足用戶使用需求。

工業 射監控系統（ILMS）將重新成像的LensPlate2組件和高功率保偏採樣器（PPBS）相結合，通過WinCamD-LCM作爲 終檢測設備，CMOS感測器使得該設備可以呈現檢測 射截面的真實值，大功率聚焦光斑分析儀可放大光束束腰，使其呈現在無限遠處，同時對光束能量的一小部分進行採樣，LensPlate2組合的放大率允許對小至幾微米的光束點進行全二維測量。

ILMS 使用光束採樣和放大光學器件，通過 WinCamD-LCM 成像輪廓儀監測高功率光纖輸出或光束聚焦。

 

值得注意的是，無論使用任何功率的 射器時，都需要遵循適當的 射 協議，請參閱ANSIZ136.1。一定要瞭解光程光路，包括每一次通過玻璃表面的反射/透射狀態。PPBS採樣器具備三個釋放 射輻射的孔，Residual 1、Residual 2和Output。大部分功率將退出Residual 1面，預計功率高達99%的光束功率將會離開Residual 1，Residual 2的輸出可能低於1%或保持在50%左右，具體輸出取決於材料、波長和輸入偏振狀態。小心並假設光束陷阱（或其他吸收能量的元件會很熱。）

注：650-1050 nm鍍膜透鏡的損傷閾值爲1000 W/cm和 5.0 J/cm²

像素倍增因子（PMF）：

在高功率聚焦 射輪廓分析儀的軟體使用過程中，Pixel Multiplication Factor必須正確設置，以便軟體能夠自動適應ILMS放大倍數。像素倍增因子（PMF）必須設置爲放大倍數的倒數，如：型號爲ILMS-5X-LCM的5倍工業 射監控系統要求PMF值爲0.2（1/5），如下圖所示，所有測量值均按照PMF值顯示，當PMF設置正確時，無需手動計算校正值。

工業 射焦點監控系統（ILMS）鏡頭設計：

LensPlate2 中的每個透鏡都設計用於在無限共軛比下爲接近軸的光束提供 性能。 對於 射器，這意味着每個透鏡一側的光束應該被準直以獲得 性能，如圖所示。 LensPlate2被校準，使得當光束入射到 WinCamD 成像感測器時，輸出透鏡的焦點將與 WinCamD 成像感測器重合。 輸出透鏡被準直，從而滿足 光學性能的無限共軛比要求。

 

離軸性能

海納光學提供Dataray所生產的透鏡板，該元件通常設計用於使用消色差或非球面透鏡進行軸上測量，涵蓋大多數 射測量應用。若需要 的離軸成像的應用通常需要爲離軸成像校正的輸入物鏡。此類物鏡可以從第三方購買，並作爲無限遠校正顯微鏡物鏡出售。DataRay 可以幫助選擇合適的無限遠校正物鏡作爲輸入鏡頭。