全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機
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產品詳情
“全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機”參數說明
| 是否有現貨： | 否 | 加工定製： | 是 |
| 品牌： | 沃克 | 電鍍位置： | 輪式噴鍍 |
| 鍍種： | 真空鍍膜 | 適用範圍： | 機械製造領域、3c電子工業、汽車製造、航 |
| 產品別名： | 電弧機、塗層機、真空爐、納米塗層爐 | 型號： | Wk-1000 |
| 規格： | 1 | 商標： | 沃克真空-wk |
| 包裝： | 1 | 專利分類： | 1 |
| 專利號： | 1 | 產量： | 356 |
“全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機”詳細介紹
全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機基本介紹
弧源底座開發使用多弧方式的原理、解決金屬材料溶化會產生粗大顆粒(大粒子)的問題，克服實質性的困難開出了塗層技術。與此同時針對材料的不同、分析靶材表面電弧情況，使用合適的方案進行對應處理。
全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機性能特點
金屬、電弧、真空、塗層、納米、鍍膜、氮化鈦，淡化鉻、高鋁、鈦鋁、黑鈦、TAC、DLC
全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機技術參數
內尺寸：1000x1100(mm)
靶材數量：9套動態磁多弧用於鍍膜，靶材直徑中160
IET離子源：弧源+陽極棒(含陽極電源)組成“IET”離子源提高膜基結合力
轉架：8軸下懸掛公自轉，可正反轉，採用液壓車進出爐
磁場電源：1000W數顯表顯示，0到100V調節，一拖三，3臺
加熱系統：爐內側面加熱方式，9組加熱，每組3.8KW，共35KW，上中下加熱均勻
靶材數量：9套動態磁多弧用於鍍膜，靶材直徑中160
IET離子源：弧源+陽極棒(含陽極電源)組成“IET”離子源提高膜基結合力
轉架：8軸下懸掛公自轉，可正反轉，採用液壓車進出爐
磁場電源：1000W數顯表顯示，0到100V調節，一拖三，3臺
加熱系統：爐內側面加熱方式，9組加熱，每組3.8KW，共35KW，上中下加熱均勻
全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機使用說明
全自動真空離子鍍膜機多弧離子納米磁控濺射鍍膜機採購須知
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