脫硝氨逃逸分析儀,脫硫逃逸氨監測系統,高精度氨逃逸
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“脫硝氨逃逸分析儀,脫硫逃逸氨監測系統,高精度氨逃逸”參數說明
是否有現貨: | 是 | 加工定製: | 是 |
品牌: | 宜先 | 類型: | 固定式 檢測儀 |
測量範圍: | 0-5-10ppm | 測量對象: | 各行業氨逃逸檢測 |
測量精度: | ±1%Fs | 電壓: | 220V |
解析度: | ±1%Fs | 尺寸: | 1200mm*1000mm*400mm |
適用範圍: | 化工、鋼鐵、發電廠、鍋爐廠 | 型號: | YXEA2000 |
包裝: | 木箱 |
“脫硝氨逃逸分析儀,脫硫逃逸氨監測系統,高精度氨逃逸”詳細介紹
宜先防爆型氨逃逸在線監測系統對火電廠及供暖廠的燃煤鍋爐SCR/SNCR脫硝工藝中的NH3逃逸量進行實時的在線監測,監測結果可以指導優化還原劑氨的注入量,以達到提高脫硝效率的目的。
解決了在脫硝系統中存在高溫、高溼、高粉塵的惡劣環境,並能夠穩定、可靠、準確地檢測出1~3ppmV的微量逃逸 濃度。
同時有效地控制NH3逃逸量減少銨鹽的生成,避免對下游設備的腐蝕和危害,延長催化劑壽命,節約運營成本。SCR/SNCR脫硝工藝多採用高溫氨法還原原理,由此決定了逃逸NH3的高溫高粉塵的測量環境。
TDLAS技術
採用可調諧半導體 射吸收光譜( TDLAS)進行測量。當激光二極管的光通過被測量氣體時,其波長可調諧成被測氣體的吸收波長,此光被調諧波長掃描,並由光二極管把透過的光信號記錄下來,由計算單元計算吸收光的信號大小,進而得到氣體的濃度。
它與傳統光譜吸收技術的不同之處在於半導體 射光譜寬度遠小於氣體吸收譜線的展寬。因此,半導體 射吸收光譜技術是一種高解析度的光譜吸收技術。
- 此設備是ⅡC防爆型的
- 整套系統實現原位安裝,實時測量,自動吹掃,檢測下限低(原位對射式 射分析儀無法達到),從根本上解決了採樣預處理帶來的諸如響應滯後、維護頻繁、易堵易漏、易損件和運行費用高等各種問題。
- 測量結果準確,響應時間極快,無需校準
- 採用二次諧波原理,在相同光程條件下,解析度高,可實現 濃度的NH3測量
- 高精度,可以達到ppb級
線性誤差: ≤±1%F.S/7d
量程漂移: ≤±1%F.S/7d
重複性: <1%
響應時間(T90): ≤2 S (T90)
預熱時間: 1h
防護等級: IP65
模擬量輸出: 4-20 mA
通訊介面 :1路RS-485
通訊協議: PROFIBUS–DP(選配)
報 信號: 繼電器(2路)
供電電源: AC 220V ±10V 50Hz
功耗: ≤2.5KW 環境溫度 -20~60℃
相對溼度: ≤90% RH,無結露
工作溫度: -40~230℃
吹掃氣體: 0.3~0.8MPa 工業氮氣或者淨化儀表 儀錶空氣
對接法蘭規格: DN65 PN1.0
安裝方式: 抽取式原位安裝
- 火力發電廠脫硝工藝段
- 化工水泥廠
- 垃圾焚燒處理廠
- 燃煤發電廠
- 鋼鐵冶煉廠
- 玻璃製造廠等
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