高溫蒸鍍儀，KT-Z1650CVD，石英＋不鏽鋼腔體，觸摸屏控制，工藝儲存功能，自動電控擋板保護樣品

在厚度爲2nm (20埃)或厚時膜是連續的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到 電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發。基於這點，出現了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作爲標準配置，此泵作爲機械真空泵的後級泵，真空爲全自動控制，真空度優於1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用暫態蒸發開關使脈衝蒸發在用戶控制下進行。
標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座

高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑爲50mm.。標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析"需要鍍碳層時尤爲有利。 
碳棒頭在儀器中作爲標準件。這是一個“快速釋放頭"，使用戶在選擇金屬蒸發附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地 換。放氣系統具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，並且可“關閉"直接通大氣。