關鍵詞：銅靶材|銅靶|銅濺射靶材|高純銅靶材|銅靶材價格

 

啟睿新材料可提供純度99.95%~99.999%的各種純度及要求的銅靶材，其中氧含量 可以<1ppm，主要用於顯示屏及觸摸屏配線及其保護膜，太陽能光吸收層、半導體配線等行業。除了滿足客戶平面靶（ G8.5代）的需求，我們還可以生產銅的旋轉靶，主要用於觸摸屏行業。高純銅靶的晶粒很難打碎，我們只有通過超大變形量加工，控制欒晶的生長，以取得細小均勻的微觀組織，從而可確保濺射鍍膜時能獲得較低侵蝕速率，並且降低濺射過程中顆粒的形成敏感度。銅濺射靶中的雜質會降低材料的導電率，在半導體膜層生產中雜質元素是影響良率的主要因素。以鈦、磷、鈣、鐵、鉻和硒等形式存在的雜質尤爲關鍵，而這些金屬在我們的銅靶中含量很少，其雜質含量遠遠低於客戶要求標準值。

 

我們可供應實驗室用及工業用的平面靶、旋轉靶等，歡迎聯繫諮詢。

 

純度：99.95-99.999%；

銅旋轉靶採用真空熔鍊工藝，可生產 長度4000mm，厚度根據客戶要求定製。

銅平面靶採用真空熔鍊工藝，可生產 長度2500mm， 寬度400mm，尺寸可根據客戶要求加工。

應用領域：薄膜太陽能工業，低輻射玻璃工業，平板顯示工業，光學鍍膜工業，半導體工業，工具及裝飾鍍膜工業。

 

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