Triton160等離子清洗機13.56MHZ  RF源

Triton 160：一體式等離子處理系統設備

　　面向大半導體市場工業級客戶與研髮型客戶使用需求設計的範用型等離子處理設備，適用於等離子清洗、活化以及刻蝕等多種應用。設備可在嚴苛環境下穩定運行，獲得高度均一化的處理效果。

　　應用領域

　　I 金屬鍵合(wire-bond)前的等離子清洗

　　通過等離子表面處理可以去除焊盤表面的外來污染物與金屬氧化物，提供一個清潔的焊接面，提升後續金屬鍵合工藝的良率以及鍵合強力。

　　II 塑封(Molding)前的等離子清洗

　　等離子清洗、活化工藝可以去除器件表面各種納米級的污染物殘留，並提升表面能，保證塑封料與基底材料的緊密結合，減少分層等不良的產生。

　　III 底部填充(Underfill)前的等離子清洗：

　　通過等離子表面處理可以去除焊盤表面的外來污染物與金屬氧化物，提供一個清潔的焊接面，提升後續金屬鍵合工藝的良率以及鍵合強力。

　　IV 光刻膠的去除(Descum)：

　　在微電子行業中，使用等離子去除光刻膠是一種常用的工藝，通過等離子處理可以去除顯 孔底的殘膠，並對孔的側壁形貌就行修飾，提升後續工藝良率。此外，溼法去膠後，用等離子去除表面殘留的納米級光刻膠殘留也可有效提升後續工藝良率。

　　設備特點

　　13.56MHz射頻電源與自動匹配系統，具有優異的穩定性與可重複性

　　靈活的電極結構設置與優化的氣體饋入、分佈方案，確保大批量處理的均勻性

　　 的反應源供應系統，可滿足多種工藝需求

　　PLC與工控機提供穩定的過程控制，設備運行的實時參數通過顯示屏直觀呈現

　　系統穩定可靠，易於保養與維護

　　Triton160 標準技術規格

設備尺寸	寬*深*高	700W x 1200D x 1810H mm -- 2215H mm 帶信號燈高度
腔體	尺寸	518W x 648D x 518H mm
	容積	173L
	電極數量可達	8
	電極間距	57mm
電極	功率電極尺寸	405W x 450D mm
	接地電極尺寸	477W x 450D mm
射頻系統	射頻功率及頻率	1250W/13.56MHz
氣體控制	氣路配置	標配兩路 / 可擴充至5路氣體
真空泵	標準配置	65m3/h油泵 / 80m3/h幹泵（可選）
		5-25L/min
	幹泵冷卻水流量	3~7L/min
廠務要求	供電要求	380V, 16A, 50Hz, 3-Phase, 11AWG, 5-Wire
	工藝氣體介面及尺寸	1/4英寸卡套介面
	工藝氣體種類及純度	CF4 = 99.97%; O2 = 99.996%; N2 = 99.99%; 　　Ar = 99.999%; 其餘氣體請諮詢JETPLASMA
	工藝氣體壓力	15~20 psig
	吹掃氣體種類及純度	N2=99.99%
	吹掃氣體壓力	10-60 psig
	氣動用介面及尺寸	1/4英寸卡套介面
	氣動用氣體及壓力	CDA, 60~90 psig
	排氣口介面及尺寸	KF40
	環境溫度	5~40℃
	相對溼度	40~60%