疏水性氣相二氧化矽一般是經過後處理的產品。可以選用不同型號的氣相法或沉澱法二氧化矽作爲原料，通過矽烴基基團與合適的化合物反應;這一產品由於表面連接不水解的甲基基團而呈疏水性。

與原本親水性二氧化矽不同的是，疏水性氣相二氧化矽不能被水所溼潤。儘管疏水性氣相二氧化矽密度大於水的密度，但它們可以浮於水面上。疏水化後，所吸收的水分的量會比原來親水性氣相化矽大幅降低。

通過對氣相二氧化矽進行表面處理，其技術性能在一些特定的應用領域可以得到優化，可以使之有效改善許多液體聚合物體系的流變特性，尤其是在環氧樹脂體系內。

以下爲型號表供參考：

疏水型氣相二氧化矽三級均質機

疏水性氣相二氧化矽主要有：
研磨分散：利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同，將研磨料投入加料輥(後輥)和中輥之間的加料溝，二輥以不同速度內向旋轉，部分研磨料進入加料縫並受到強大的剪切作用，通過加料縫，研磨料被分爲兩部分，一部分附加在加料輥上回到加料溝，另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫，在此又一次受到強大的剪切力作用。經過刮漆縫，研磨料又分成兩部分，一部分由前輥帶到刮處，落入刮漆盤，另一部分再回到加料溝，如此經幾次迴圈，可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低，能耗高，滿足不了大生產的需求。
球磨分散：通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用，使接觸 的粉體粒子被撞碎或磨碎，同時使混合物在球的空隙內受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
砂磨分散：砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質是用微細的珠或砂。砂磨機可連續進料，納米粉體的預混合漿通過圓筒時，在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用，使得納米氧化物能很好地分散在塗料中，分散後的漿離開砂粒研磨區通過出口篩，溢流排出，出口篩可擋住砂粒，並使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度，但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低，能耗高的缺點。

高速分散機的高的轉速和剪切率對於獲得超細微懸浮液是***重要的。根據行業特殊要求，太倉希德在XR2000系列的基礎上又開發出XRS2000高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度範圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研製的電機可以使粒徑範圍小到納米級。剪切力強粒經分佈窄。由於能量密度高,無需其他輔助分散設備。